[發明專利]定容式精準自動補液裝置有效
| 申請號: | 201010610270.6 | 申請日: | 2010-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN102148285A | 公開(公告)日: | 2011-08-10 |
| 發明(設計)人: | 劉志剛 | 申請(專利權)人: | 常州億晶光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;B08B3/08 |
| 代理公司: | 常州市維益專利事務所 32211 | 代理人: | 周祥生 |
| 地址: | 213200 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定容式 精準 自動 補液 裝置 | ||
技術領域:
本發明涉及一種太陽能硅片清洗設備,尤其涉及全自動清洗設備中的補液裝置。
背景技術:
在太陽能電池片的生產過程中,硅片的清洗工序是十分重要的工序,清洗質量直接影響到太陽能電池片的光電轉換性能。硅片在清洗設備中,由于硅片與清洗液之間要發生化學反應,清洗液中的相關化學成份將被消耗,若不及時補充將直影響硅片的清洗效果。為了提高硅片清洗工藝的穩定性,在清洗一定次數后必須向清洗液中補充相應的化學藥液。普通清洗機都采用人工添加方法進行補液,人工添加都存在補液量不準確的缺陷,補液精度人為因素影響很大。為了克服人工補液存在的缺陷,在先進的硅片清洗機中都設置了集中補液系統,所述集中補液系統由機械式補液泵定時向清洗槽中補充液體,在清洗設備運轉過程中,根據單位時間內液清洗消耗的多少,確定相應流量的機械式補液泵,控制系統每隔預定時間間隔就向清洗槽中補一次液,這種補液系統雖然能實現對清洗槽的自動補液,但由于機械補液量的補液精度不高,且以每清洗十次確定為補液間隔,這樣清洗液的化學濃度波動性很大,硅片的清洗質量波動也比較大,要想進一步提高硅片的清洗質量,必須及時補液,減小清洗液化學濃度波動值,因此,申請人設計了一種定壓式自動補液裝置,其補液原理是:在定壓、流量相同條件下,通過控制補液時間來精確控制補液量,當清洗槽每清洗一批硅片后補液裝置就適時向清洗槽中補液,這就是人們所述的微量精補裝置,有了這種微量補液裝置,清洗槽中清洗液的化學濃度的變化波動值就能得到有效控制,從而提高了硅片的清洗質量。
發明內容:
為了克服現有硅片清洗機中補液裝置存在的不足,本發明提供了一種硅片清洗設備的定容式精準自動補液裝置,它采用定容補液方式,在每清洗一次硅片后能對清洗槽及時進行定容精準補液,確保每批硅片清洗后清洗槽中的清洗液得到精準的補充,這樣就能比較精確地控制清洗液的濃度,從而保證硅片的清洗質量。
本發明所采用的技術方案是:
所述一種定容式精準自動補液裝置,其特征是:它包括儲液罐、機械補液泵、定徑罐、上液位傳感器、下液位傳感器、浮球、U形浮球桿、定容傳感器、標尺、電磁換向閥、清洗槽和控制系統,儲液罐設置在全自動硅片清洗機旁,儲液罐中存放待補充溶液,在儲液罐頂部設有加液開口,供操作人員向其中加注溶液,機械補液泵設置在定徑罐和儲液罐之間,在定徑罐的側壁上設有上液位傳感器和下液位傳感器,在定徑罐底部引出的補液管經電磁換向閥通入清洗槽,浮球放置在定徑罐內,U形浮球桿的內桿穿過定徑罐的上蓋并旋固在浮球上,U形浮球桿的外桿沿定徑罐的外壁向下延伸,在外桿上設有定容傳感器,在對應于定容傳感器的側面設有標尺,上液位傳感器、下液位傳感器、定容傳感器和電磁換向閥都與控制系統電連接。
由于將儲液罐中的待加補溶液經機械補液泵先輸入定徑罐中,在定徑罐的側壁上依次設有上液位傳感器和下液位傳感器,機械補液泵的開關由上液位傳感器和下液位傳感器控制,確保定徑罐內液位處于預定高度范圍之內,通過定徑罐的直徑和浮球的下移距離可以獲知浮球下降單位尺寸所放出的液體容積,再根據清洗槽每次定量清洗硅片所消耗的溶液量,經計算就得出每次補液浮球應該下降的距離,該距離由定容傳感器控制,當清洗槽每次清洗一次后及時控制電磁換向閥開通補液,當定容傳感器下移預定距離后,定容傳感器向控制系統發出信號,立即關閉電磁換向閥,這樣清洗槽就能得到精確地補液,使清洗槽中的溶液濃度保持穩定,從根本上保證硅片清洗質量。同時降低了機械泵開停頻率,減少了對機械泵的損傷,大大提高了全自動清洗機的使用效率。
附圖說明:
圖1為本發明結構示意圖;
圖中:1-儲液罐;2-機械補液泵;3-定徑罐;31-上蓋;4-上液位傳感器;5-下液位傳感器;6-浮球;7-U形浮球桿;71-內桿;72-外桿;8-定容傳感器;9-標尺;10-電磁換向閥;11-清洗槽;12-控制系統;13-輸液管;14-補液管。
具體實施方式:
根據附圖詳細說明本發明的具體實施方式:
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





