[發(fā)明專利]一種用于拋光含鈦基材的拋光漿料有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010609152.3 | 申請日： | 2010-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN102533122A | 公開（公告）日： | 2012-07-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張建;荊建芬;蔡鑫元 | 申請（專利權(quán)）人： | 安集微電子（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務(wù)所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區(qū)龍*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 拋光 基材 漿料 | ||
1.一種用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述拋光漿料包括一種或多種氨基酸、去離子水和研磨顆粒；所述拋光漿料用于拋光含鈦的基材。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述研磨顆粒包括二氧化硅、氧化鋁、摻雜鋁或覆蓋鋁的二氧化硅、二氧化鈰、二氧化鈦、高分子研磨顆粒中的一種或多種的組合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述氨基酸為絲氨酸、甘氨酸、丙氨酸、纈氨酸、亮氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、賴氨酸、精氨酸、組氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、蘇氨酸、脯氨酸、胱氨酸、半胱氨酸、天冬酰胺，或谷氨酰胺中的一種或幾種混合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述氨基酸的含量為0.01~10wt%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述氨基酸的含量為0.01~5wt%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述研磨顆粒的百分含量為0.1~20wt%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述研磨顆粒的直徑為20~150nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述拋光漿料的pH值為4~11。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述拋光液用于拋光含鈦金屬或氮化鈦的基材。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光含鈦基材的拋光漿料，其特征在于，所述拋光漿料還包括粘度調(diào)節(jié)劑或消泡劑。
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