[發明專利]修補掩模板的設備及方法無效
| 申請號: | 201010608246.9 | 申請日: | 2010-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN102566256A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | 徐濤 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/72 | 分類號: | G03F1/72 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 修補 模板 設備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及半導體、光電子及電子設備領域,尤其涉及一種修補掩模板的設備及方法。
背景技術
掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。在半導體行業中,掩模板被反復使用。
由于掩模板的反復使用會導致掩模板上存在被污染或被殘損的缺陷,在掩模板上存在缺陷時,通過掩模板制備的成品就會是不良品。在對不良品進行質檢時能夠獲知掩模板上缺陷的位置。掩模板上被污染的缺陷,如圖1所示的掩模板上的粘連11、邊線毛刺12等,稱之為黑點類不良,可以通過激光器對其進行切割實現對掩模板的還原。然而,掩模板上被殘損的缺陷,如圖1所示的掩模板上的開口13、針孔14等,稱之為非黑點類不良,在掩模板上存在非黑點類不良時,無法對其做還原操作,而是直接將該掩模板棄用,是一種資源的浪費。
發明內容
本發明實施例提供修補掩模板的設備和方法,用以解決由于非黑點類不良導致掩模板被棄用的問題。
為達到上述目的,本發明實施例采用如下技術方案:
一種修補掩模板的設備,包括修理平臺,還包括控制單元,所述控制單元通過控制線與所述修理平臺連接,所述修理平臺上設有光阻注射器和光阻凝固裝置,所述控制單元根據待修補掩模板上缺陷的缺陷屬性控制所述光阻注射器和所述光阻凝固裝置對所述待修補掩模板上的缺陷進行修補,所述缺陷屬性包括所述待修補掩模板上缺陷的大小和位置信息。
具體的,所述控制單元,包括截取所述待修補掩模板上缺陷屬性的截取模塊、光阻注射器控制模塊和光阻凝固裝置控制模塊;
所述截取模塊通過信號線與所述光阻注射器控制模塊連接,所述截取模塊通過所述信號線將待修補掩模板上缺陷的大小、位置信息傳輸給所述光阻注射器控制模塊,所述光阻注射器控制模塊根據所述缺陷的大小、位置信息控制所述光阻注射器對待修補掩模板上的缺陷進行修補;
所述光阻注射器控制模塊通過信號線與所述光阻凝固裝置控制模塊連接,所述光阻注射器控制模塊將光阻注射器關閉信號和所述缺陷的大小、位置信息傳輸給所述光阻凝固裝置控制模塊,所述光阻凝固裝置控制模塊根據光阻注射器關閉信號和所述缺陷的大小、位置信息控制所述光阻凝固裝置的開啟以及凝固所述光阻注射器注射出來的光阻劑。
進一步的,為了使得所述設備對非黑點類不良的修補更簡便,所述修理平臺上還設有激光器,所述控制單元根據所述待修補掩模板上缺陷的缺陷屬性控制所述激光器對所述待修補掩模板上的缺陷進行切除處理,獲得輪廓規則的缺陷,所述缺陷屬性還包括待修補掩模板上缺陷的類型。
具體的,所述控制單元包括截取所述待修補掩膜板上缺陷的缺陷屬性截取模塊、激光器控制模塊、光阻注射器控制模塊和光阻凝固裝置控制模塊;
所述截取模塊通過信號線與所述激光器控制模塊連接,所述截取模塊通過所述信號線將待修補掩模板上缺陷的類型、大小和位置信息傳輸給所述激光器控制模塊;
在所述缺陷為非黑點類不良,且所述缺陷的輪廓不規則時,所述激光器控制模塊根據所述缺陷的類型、大小和位置信息控制所述激光器對所述缺陷進行切除處理,所述激光器發射的激光光束的橫截面將所述缺陷覆蓋,獲得輪廓規則的缺陷;
所述激光器控制模塊通過信號線與所述光阻注射器控制模塊連接,所述激光器控制模塊將所述缺陷的類型和所述激光器發射激光的激光屬性通過信號線傳輸給所述光阻注射器控制模塊,所述光阻注射器控制模塊根據所述缺陷類型和所述激光屬性控制所述光阻注射器對待修補掩模板上的輪廓規則的缺陷進行修補,所述激光屬性包括激光器發射激光光束的橫截面面積、所述激光光束的波長、功率以及所述激光光束照射在所述待修補掩模板上的位置信息;
所述光阻注射器控制模塊通過信號線與所述光阻凝固裝置控制模塊連接,所述光阻注射器控制模塊將光阻注射器關閉信號和所述激光屬性傳輸給所述光阻凝固裝置控制模塊,所述光阻凝固裝置控制模塊根據光阻注射器關閉信號和所述激光屬性控制所述光阻凝固裝置的開啟以及凝固所述光阻注射器注射出來的光阻劑。
具體的,所述光阻注射器包括光阻存儲槽以及位于所述光阻存儲槽底部的注射針頭;所述光阻凝固裝置為紫外光照射燈。
具體的,所述激光器包括不同放大倍率的鏡頭、激光遮光調節器和激光源,所述鏡頭通過托盤與所述激光遮光調節器連接,所述激光遮光調節器位于所述激光源的底部。
進一步的,為了避免所述待修補掩模板與所述作業平臺的摩擦,所述待修補掩模板通過升降頂針固定于一作業平臺之上,所述修理平臺通過一龍門架置于所述作業平臺之上。
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





