[發明專利]一種場發射用注射器狀ZnO納米結構陣列的制備方法無效
| 申請號: | 201010607320.5 | 申請日: | 2010-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN102061498A | 公開(公告)日: | 2011-05-18 |
| 發明(設計)人: | 徐峰;孫立濤;董方洲;畢恒昌;尹奎波;萬能 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | C25D9/04 | 分類號: | C25D9/04;C30B19/12;C30B29/16 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 李紀昌 |
| 地址: | 210096 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 發射 注射器 zno 納米 結構 陣列 制備 方法 | ||
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技術領域
本發明屬于光電子材料、半導體材料與器件技術領域,具體涉及ZnO納米陣列結構制備技術,尤其涉及一種場發射用注射器狀ZnO納米結構陣列的制備方法。
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背景技術
ZnO是一種寬禁帶的II-VI族半導體材料,其帶寬為3.37?eV,室溫下的激子束縛能高達60?meV,具有優良的化學性質和熱穩定性及良好的發光、光電轉換等性能,使其在光電子、尤其是在納米光電子器件中得到了廣泛的應用。因此,研究ZnO納米材料的生長機理,控制其形貌、大小和尺度分布,是制備和改善功能性納米器件的基礎。迄今為止,各種各樣的ZnO納米結構已經被制備出來,尤其是納米線[J.?Nanosci.?Nanotechno.,?9?(2009)?4328]、納米錐[Nano?Lett.,?10?(2010)?2038]、納米釘[Appl.?Phys.?Lett.,?95?(2009)?211107]、納米針[Phys.?Rev.?A,?370?(2007)?345]、納米鉛筆[Solid?State?Commun.,?142?(2007)?425]等具有尖端的一維ZnO納米結構陣列更容易發射出電子,引起了人們對其場發射特性研究的興趣。
在導電基底上構筑一維ZnO納米結構陣列的方法包括物理方法和化學方法,如熱蒸發法[Phys.?Status?Solidi?A,?206?(2009)?94],化學氣相沉積法[Small,?6?(2010)?2448],納米晶種子層誘導的水熱法[Physica?B,?403?(2008)?3034],模板合成法[Mater.?Chem.?Phys.,?122?(2010)?60]等。然而,這些方法通常需要較高的反應溫度和較長的反應時間,成本高,效率低,難以規模化工業生產;或者所制備的陣列結構難以從模板中分離,導致與基底電學接觸能力差,難以獲得理想的場發射性能。另外,這些合成方法對一維ZnO納米結構的尖端部分的長徑比也難以實施有效的控制。
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發明內容
發明目的:本發明的目的在于克服上述一維ZnO納米結構陣列制備技術的不足,提供一種簡單快速,成本低廉,能有效改善陣列結構與基底的電學接觸能力,且對納米結構尖端部分的長徑比能實施可控生長的規模化制備方法。
技術方案:一種場發射用注射器狀ZnO納米結構陣列的制備方法,是基于水溶液體系的兩步合成法,首先采用電化學沉積方法直接在導電玻璃基底上生長ZnO納米柱陣列;然后通過水溶液化學生長方法在原先的ZnO納米柱端面上外延生長納米針。
一種場發射用注射器狀ZnO納米結構陣列的制備方法,制備步驟為:?(1)將六水硝酸鋅溶解到水中,配制成Zn2+濃度為0.005?mol/L的澄清溶液,調節溶液的pH在5.0±0.1,所得溶液記為A;(2)以上述制備的A溶液充當電解液,采用三電極電化學沉積體系直接在導電玻璃基底上生長ZnO納米柱陣列,所用沉積電位是-0.5~-1.5?V,電解液溫度為50?℃,沉積時間為30?min;(3)將六水硝酸鋅、六亞甲基四胺和氟化鈉依次溶解到水中,三者的摩爾濃度比1:1:1~1:1:2,其中Zn2+濃度為0.005~0.1?mol/L,所得混合溶液記為B;(4)將混合溶液B加熱到90?℃后保持5?min,然后將步驟(2)中生長了ZnO納米柱陣列的導電玻璃基底置于溶液B中,在90?℃下保持1~5?h進行水溶液化學生長反應;(5)反應結束后,將導電玻璃基底從混合溶液B中取出,反復用蒸餾水沖洗,干燥后即得場發射用注射器狀ZnO納米結構陣列。
所述導三電極電化學沉積體系中電玻璃為工作電極,鉑電極為對電極,飽和甘汞電極為參比電極。
所述步驟(1)中pH調節液為NaOH或HCl。
有益效果:與現有技術相比,本發明具有以下特點:
?(1)?本發明中的注射器狀ZnO納米結構陣列采用兩步合成法制備,既保證了ZnO納米結構陣列在導電基底上的附著強度,提高了電學傳導性能,又實現了利于電子發射的尖狀納米結構的可控生長,改善了陣列結構的場發射性能。
?(2)?本發明所采用的兩步合成法基于水溶液體系,解決了傳統制備方法中合成溫度高、時間長的不足,操作工藝簡單易行,成本低,重復性好,易于工業規模化實施。
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附圖說明
圖1為本發明實施例1制備的注射器狀ZnO納米結構的TEM圖。
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