[發明專利]具有硬質涂層的被覆件及其制備方法

無效

• 申請號: 201010605431.2
• 申請日: 2010-12-25
• 公開（公告）號: CN102534484A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;彭立全
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種具有硬質涂層的被覆件，包括基體及直接形成于該基體上的結合層，其特征在于：該被覆件還包括形成于該結合層上的一復合梯度層，該復合梯度層包括多層TiN層和多層SiO_XN_Y層，其中0＜X≤1，0＜Y≤1，所述多層TiN層和多層SiO_XN_Y層交替排布并結合成一體，該復合梯度層中氮的原子百分含量由靠近該結合層至遠離該結合層的方向呈梯度增加。

2.如權利要求1所述的被覆件，其特征在于：該復合梯度層中的氮的原子百分含量在18％～38％之間。

3.如權利要求1所述的被覆件，其特征在于：所述每一TiN層和與其相鄰SiO_XN_Y層的厚度之和為5～10納米。

4.如權利要求3所述的被覆件，其特征在于：該復合梯度層包括100～200層TiN層和100～200層SiO_XN_Y層，該復合梯度層的總厚度為2～5微米。

5.如權利要求1所述的被覆件，其特征在于：該結合層為一鈦金屬層。

6.如權利要求1所述的被覆件，其特征在于：該基體為高速鋼、硬質合金、金屬陶瓷、陶瓷、不銹鋼、鎂合金及鋁合金中的一種。

7.一種具有硬質涂層的被覆件的制備方法，包括以下步驟：

提供一多靶磁控濺射設備及待鍍覆的基體，該多靶磁控濺射設備內相對設置鈦靶和二氧化硅靶；

將待鍍覆的基體放入多靶磁控濺射設備的轉架上；

由多靶磁控濺射設備在基體上濺射一結合層；

由多靶磁控濺射設備在結合層上交替濺射多層TiN層和多層SiO_XN_Y層，以形成一復合梯度層，其中0＜X≤1，0＜Y≤1，該多層TiN層和該多層SiO_XN_Y層交替排布并結合成一體，該復合梯度層中氮的原子百分含量由靠近該結合層至遠離該結合層的方向呈梯度增加。

8.如權利要求7所述的被覆件的制備方法，其特征在于：濺射所述復合梯度層的步驟為：以氬氣為離子源氣體，同時向所述多靶磁控濺射設備的真空鍍膜室通入氮氣，氮氣的初始流量為50～150sccm，設置氮氣流量逐步增加，增加速率為1～4sccm/min，直至氮氣流量增加至300～400sccm，基體加偏壓-150～-500V；開啟鈦靶和二氧化硅靶電源，電流均為60～70安培，轉架的轉速為1～3rpm，在該基體上交替沉積該多層TiN層和該多層SiO_XN_Y層，沉積時間為30分鐘～1小時。

9.如權利要求7所述的被覆件的制備方法，其特征在于：該結合層為一鈦金屬層。