[發(fā)明專利]硬質(zhì)薄膜、具備硬質(zhì)薄膜的產(chǎn)品及該產(chǎn)品的制作方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010604423.6
• 申請日: 2010-12-24
• 公開（公告）號: CN102560344A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;彭立全
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種硬質(zhì)薄膜，其特征在于：其包括多層復(fù)合膜層及至少一層鎳層，每一所述復(fù)合膜層包括多層氮鈦鋁層與多層氮鉻鋁層，該多層氮鈦鋁層與多層氮鉻鋁層交替排列，所述鎳層形成于二相鄰復(fù)合膜層之間。

2.如權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)薄膜，其特征在于：所述多層氮鈦鋁層與多層氮鉻鋁層交替排列的層數(shù)分別為5-8層，每一氮鈦鋁層與每一氮鉻鋁層的厚度在8-20納米之間。

3.如權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)薄膜，其特征在于：所述硬質(zhì)薄膜的總厚度為1.5-3微米，所述硬質(zhì)薄膜的外表為一復(fù)合膜層。

4.一種產(chǎn)品，包括基體及形成于基體上的硬質(zhì)薄膜，其特征在于：所述硬質(zhì)薄膜包括多層復(fù)合膜層及至少一層鎳層，每一所述復(fù)合膜層包括多層氮鈦鋁層與多層氮鉻鋁層，該多層氮鈦鋁層與多層氮鉻鋁層交替排列，所述鎳層形成于二相鄰復(fù)合膜層之間。

5.如權(quán)利要求4所述的產(chǎn)品，其特征在于：所述基體選擇為硬質(zhì)合金、高速鋼、陶瓷、以及金屬陶瓷中的一種。

6.如權(quán)利要求3所述的產(chǎn)品，其特征在于：所述多層氮鈦鋁層與多層氮鉻鋁層交替排列的層數(shù)分別為5-8層，每一氮鈦鋁層與每一氮鉻鋁層的厚度在8-20納米之間。

7.一種產(chǎn)品的制作方法，包括以下步驟：

提供一基體；

將基體置入鍍膜機中交替沉積氮鈦鋁層與氮鉻鋁層以形成一復(fù)合膜層后，于該復(fù)合膜層表面沉積一鎳層；

于該鎳層表面沉積另一復(fù)合層，

照上述過程循環(huán)沉積，制得所述產(chǎn)品，使得產(chǎn)品最外層為一復(fù)合膜層。

8.如權(quán)利要求7所述的產(chǎn)品的制作方法，其特征在于：交替沉積前先清洗靶材，清洗過程中，將鍍膜室內(nèi)抽真空至3.0×10^-3Pa，通入流量為500cm³/s的高純氬氣，開啟TiAl靶材、CrAl靶材及鎳靶材，各靶材的電流為30-50A。

9.如權(quán)利要求8所述的產(chǎn)品的制作方法，其特征在于：交替沉積每一氮鈦鋁層與每一氮鉻鋁層時，調(diào)節(jié)鍍膜室內(nèi)氬氣流量為300cm³/s，通入流量為80～150cm³/s的氮氣，調(diào)節(jié)TiAl靶材與CrAl靶材電流為30～45A，調(diào)節(jié)偏壓至-250～-450V，調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)架速度為0.5-3r/min(轉(zhuǎn)/分鐘)。

10.如權(quán)利要求7所述的產(chǎn)品的制作方法，其特征在于：沉積每一鎳層過程中，調(diào)節(jié)鎳靶材電流為20～30A，沉積時間為60～120s。