[發明專利]一種顯影液組成物

有效

• 申請號: 201010604187.8
• 申請日: 2010-12-24
• 公開（公告）號: CN102063024A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 何國銳;殷健成
• 申請（專利權）人: 東莞市智高化學原料有限公司
• 主分類號: G03F7/32
• 分類號: G03F7/32
• 代理公司: 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228
• 代理人: 羅曉聰

技術領域：

本發明涉及一種顯影液組成物，特指一種關于正性抗蝕劑的顯影液組成物。

背景技術：

一般在液晶顯示器、印刷電路板和集成電路等制備工藝中，為獲得精細圖形，常用光刻膠等放射線敏感組成物以涂布方式在基材上形成薄膜，經過曝光后，以堿性顯影液顯像，去除不要的涂膜部分，以獲取良好的圖形。

在這些平板印刷工序中，通過曝光把畫有電路圖案的掩膜轉移到晶片上的光刻膠上，接著使上述光刻膠的曝光面與顯影液接觸，對于正性，曝光的部分溶解于顯影液，而對于負性，未曝光區溶解于顯影液。

顯影工藝的第一個目的是未曝光的正性抗蝕劑膜應受顯影劑腐蝕程度最小。實際的顯影總是對未曝光的抗蝕劑有某種程度的腐蝕，但由于曝光區和未曝光區的溶解度不同，使得抗蝕劑工藝可行。實際上，選擇范圍更大的顯影劑也花更長時間以完全顯影圖像。這樣，選擇顯影劑時，就必須綜合考慮不同的溶解度和產能。應選擇一顯影劑其產能滿足要求且不引起過分的抗蝕劑變薄。另外，顯影劑也應有足夠的容度以使工藝能在生長環境中維持。

進行顯影有三種主要方法：浸入、噴淋和攪動顯影。

然而根據已知顯影液的技術，感光性抗蝕劑在涂膜并預烤、曝光后，雖可用堿性顯影液來溶解除去未曝光而不要的涂膜部份，但在顯影時容易產生未顯影部位粒子或未溶解物的殘存，因此顯影后比較難以形成精細的圖像，從而無法滿足市場的需求。

發明內容：

本發明所要解決的技術問題就在于克服目前顯影液所存在的不足，提供一種顯像性良好，避免殘渣生成，抗蝕劑曝光后能形成圖像的顯影液組成物。

為解決上述技術問題，本發明采用的技術方案是：該顯影液組成物的構成原料及重量配比為：

堿性化合物??????????0.1～15份；

非離子表面活性劑????0.1～15份；

陽離子表面活性劑????0.1～1份；

滲透劑??????????????0.01～5份；

純水????????????????余份。

上述技術方案中，所述顯影液組成物的構成原料及重量配比為：

堿性化合物??????????10份；

非離子表面活性劑????8份；

陽離子表面活性劑????0.5份；

滲透劑??????????????3份；

純水????????????????78.5份。

或，上述技術方案中，所述顯影液組成物的構成原料及重量配比為：

堿性化合物??????????8份；

非離子表面活性劑????6份；

陽離子表面活性劑????0.3份；

滲透劑??????????????2.5份；

純水????????????????83.2份。

上述技術方案中，所述堿性化合物的作用在于溶解非圖像部分的抗蝕劑，該堿性化合物為無機堿性化合物或有機堿性化合物；其中，無機堿性化合物為：堿金屬的氫氧化物、碳酸氫鹽、碳酸鹽中的一種或幾種；有機堿性化合物為：單甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、單乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、單乙醇二甲基胺中的一種或幾種。

上述技術方案中，所述非離子表面活性劑為：聚氧乙烯烷基酚醚、聚氧乙烯脂肪醇醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯多元醇酯、失水三梨醇酯中的一種或幾種。

上述技術方案中，所述陽離子表面活性劑為：烷基三甲基銨鹽、二烷基二甲基銨鹽、酰胺型季銨鹽、醚基季銨鹽中的一種或幾種。

上述技術方案中，所述滲透劑為聚氧乙烯醚類滲透劑中的聚氧乙烷和高級脂肪醇的縮合物或磷酸酯。

上述技術方案中，所述純水是經過離子交換樹脂過濾的水，其電阻至少是18MΩ。

本發明的優點在于：本發明具有顯像性良好，避免殘渣生成，抗蝕劑曝光后能形成圖像。其次，本發明具有低毒性、不具易燃性、以及管理容易、廢液處理簡便及成本低廉等優點。再次，本發明可運用在液晶顯示器(LCD)、印刷電路板(PCB)、集成電路(IC)等領域上。

具體實施方式：

下面結合具體實施例對本發明進一步說明：

實施例一

本實施例一具體原料及重量為：

碳酸鹽??????????????10千克；

聚氧乙烯脂肪醇醚????8千克；

醚基季銨鹽??????????0.5千克；

聚氧乙烯醚類滲透劑中的聚氧乙烷和高級脂肪醇的縮合物3千克；

純水????????????????78.5千克。