[發(fā)明專利]一種PLC光器件的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010604184.4 | 申請日： | 2010-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN102540334A | 公開（公告）日： | 2012-07-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王鵬飛;劉磊;劉偉 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州東微半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號： | G02B6/136 | 分類號： | G02B6/136;G02B6/132 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215123 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 plc 器件 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種光波導(dǎo)器件的制造方法，包括：
提供一個石英玻璃襯底；
淀積光刻膠；
光刻形成圖形；
淀積高折射率層；
回刻部分所述高折射率層，將光刻膠上的所述高折射率層去除而保留淀積在光刻膠之間的凹槽內(nèi)的所述高折射率層材料，以形成高折射率芯層；
剝除光刻膠；
淀積低折射率膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光波導(dǎo)器件的制造方法，其特征在于，所述光刻膠的厚度范圍為5-15微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光波導(dǎo)器件的制造方法，其特征在于，所述的高折射率芯層的厚度范圍為2-20微米，其寬度范圍為2-30微米。
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