[發明專利]一種凸面光柵成像光譜儀的裝配方法

無效

• 申請號: 201010604099.8
• 申請日: 2010-12-24
• 公開（公告）號: CN102141439A
• 公開（公告）日: 2011-08-03
• 發明（設計）人: 劉玉娟;崔繼承;巴音賀希格;唐玉國
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01J3/28
• 分類號: G01J3/28
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所 22210
• 代理人: 陶尊新

1.一種凸面光柵成像光譜儀的裝配方法，其特征是，該方法由以下步驟實現：

步驟一、配備干涉儀(1)和標準補償鏡(10)；

步驟二、將主鏡(2)和三鏡(3)置于步驟一所述的干涉儀(1)被檢鏡位置，通過干涉條紋離焦量調整主鏡(2)和三鏡(3)的位置；

步驟三、將汞燈(6)置于狹縫(5)前，凸面光柵(4)置入主鏡(2)和三鏡(3)之間，讀數顯微鏡(7)置入凸面光柵(4)像面處，調整凸面光柵(4)，讀數顯微鏡(7)顯示汞燈(6)的-1級光譜；

步驟四、將探測器(8)置入步驟三所述的讀數顯微鏡(7)的位置，望遠系統(9)置于汞燈(6)與狹縫(5)之間，根據汞燈(6)的-1級光譜像調整探測器(8)與望遠系統(9)的位置，實現凸面光柵成像光譜儀的裝配。

2.根據權利要求1所述的一種凸面光柵成像光譜儀的裝配方法，其特征在于，步驟二所述的通過干涉條紋離焦量控制主鏡(2)和三鏡(3)的位置，具體過程為：干涉儀(1)的光源同時發出參考光束和檢測光束，所述檢測光束經過標準補償鏡(10)同時入射至主鏡(2)和三鏡(3)，然后經主鏡(2)和三鏡(3)表面反射后返回至標準補償鏡(10)，所述返回至標準補償鏡(10)的檢測光束與1參考光束發生光干涉，形成干涉條紋，根據獲得的干涉條紋檢測所述主鏡(2)和三鏡(3)的離焦量，當主鏡(2)的離焦量和三鏡(3)的離焦量相等時，主鏡(2)和三鏡(3)同心。

3.根據權利要求1所述的一種凸面光柵成像光譜儀的裝配方法，其特征在于，步驟一所述的標準補償鏡(10)為大口徑凹球面面形檢測補償鏡，所述標準補償鏡(10)的面形、口徑與主鏡(2)、三鏡(3)的面形、口徑相匹配。

4.根據權利要求1所述的一種凸面光柵成像光譜儀的裝配方法，其特征在于，步驟三所述的調整凸面光柵(4)，讀數顯微鏡(7)顯示汞燈(6)的-1級光譜是指：調整凸面光柵(4)的位置和角度，用讀數顯微鏡(7)找出汞燈(6)的0級、-1級光譜，調整凸面光柵(4)使汞燈(6)的-1級光譜的中心波長位于凸面光柵(4)的像面中心。

5.根據權利要求1所述的一種凸面光柵成像光譜儀的裝配方法，其特征在于，步驟一所述的干涉儀(1)為雙光束單頻激光干涉儀。