[發明專利]一種厚膜光刻膠清洗劑

無效

• 申請號: 201010604005.7
• 申請日: 2010-12-21
• 公開（公告）號: CN102540774A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 劉兵;彭洪修;孫廣勝
• 申請（專利權）人: 安集微電子(上海)有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種厚膜光刻膠清洗劑，包含：氫氧化鉀、溶劑、季戊四醇、醇胺和間苯三酚。

2.如權利要求1所述清洗劑，其特征在于，所述氫氧化鉀含量為0.1-6wt％，所述溶劑含量為30-95wt％；所述季戊四醇含量為0.1-15wt％；所述醇胺含量為1-55wt％；所述間苯三酚含量為0.0001-1wt％。

3.如權利要求2所述清洗劑，其特征在于，所述間苯三酚含量為0.005-0.3wt％。

4.如權利要求1所述清洗劑，其特征在于，所述的溶劑選自亞砜、砜、吡咯烷酮、咪唑烷酮、咪唑啉酮、醇、醚和酰胺中的一種或多種。

5.如權利要求4所述清洗劑，其特征在于，所述的亞砜為二甲基亞砜；所述的砜為環丁砜；所述的吡咯烷酮為N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羥乙基吡咯烷酮和/或N-環己基吡咯烷酮；所述的咪唑烷酮為1，3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述的咪唑啉酮為1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)；所述的酰胺為二甲基甲酰胺和/或二甲基乙酰胺；所述的醇為丙二醇、二乙二醇或二丙二醇；所述的醚為丙二醇單甲醚和/或二丙二醇單甲醚。

6.如權利要求1所述清洗劑，其特征在于，所述的醇胺為選自單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、異丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一種或幾種。