[發明專利]一種化學機械拋光液

無效

• 申請號: 201010603945.4
• 申請日: 2010-12-21
• 公開（公告）號: CN102533120A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 荊建芬;張建;蔡鑫元
• 申請（專利權）人: 安集微電子(上海)有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/302
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種拋光硅的化學機械拋光液，包含：水、研磨顆粒、至少一種硅的增速劑和至少一種硅的抑制劑。

2.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述硅的增速劑為含有胍基團的化合物。

3.如權利要求2所述拋光液，其特征在于，所述的含有胍基的化合物為單胍、雙胍、聚胍類化合物及其酸加成鹽。

4.如權利要求3所述拋光液，其特征在于，所述的單胍類化合物及其酸加成鹽為選自胍、碳酸胍、乙酸胍、磷酸氫二胍、鹽酸胍、硝酸胍、硫酸胍、氨基胍、氨基胍碳酸氫鹽、氨基胍磺酸鹽、氨基胍硝酸鹽和氨基胍鹽酸中的一種或多種。

5.如權利要求3所述拋光液，其特征在于，所述的雙胍類化合物或其酸加成鹽為雙胍、二甲雙胍、苯乙雙胍、1，1’-己基雙[5-(對氯苯基)雙胍、嗎啉胍、上述化合物的酸加成鹽或6-脒基-2-萘基4胍基苯甲酸酯甲基磺酸鹽；所述的酸為鹽酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸和磺酸中的一種或多種。

6.如權利要求3所述拋光液，其特征在于，所述的聚胍或其酸加成鹽為聚六亞甲基胍、聚六亞甲基雙胍、聚(六亞甲基雙氰基胍-六亞甲基二胺)或其酸加成鹽；所述的酸為鹽酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸或磺酸；所述的聚胍類化合物或其酸加成鹽的聚合度為2～100。

7.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述硅的增速劑在溶液中的含量為重量百分比0.0001～10％。

8.如權利要求7所述拋光液，其特征在于，所述硅的增速劑在溶液中的含量為重量百分比0.001～3％。

9.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述硅的抑制劑為磷酸酯類表面活性劑。

10.如權利要求9所述拋光液，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑具有如下結構：

(X＝RO，RO-(CH₂CH₂O)_n，RCOO-(CH₂CH₂O)_n)或含有兩個以上結構式1的多元醇磷酸酯，

其中R為C8～C22的烷基或烷基苯、甘油基(C₃H₅O₃-)；n＝3～30，M＝H，K，NH₄，(CH₂CH₂O)_1～3NH_3～1和/或Na。

11.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述的硅的抑制劑的含量為重量百分比0.0005～1％。

12.如權利要求11所述拋光液，其特征在于，所述的硅的抑制劑的含量為重量百分比0.001～0.5％。

13.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒為二氧化硅、三氧化二鋁、摻雜鋁的二氧化硅、覆蓋鋁的二氧化硅、二氧化鈰、二氧化鈦和高分子研磨顆粒中的一種或多種。

14.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒的含量為重量百分比0.1％～30％。

15.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒的粒徑為20～150nm。

16.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述的拋光液的pH值為7～12。

17.如權利要求1所述拋光液，其特征在于，所述拋光液用于涉及單晶硅和多晶硅的拋光。