[發(fā)明專利]一種仿印度紅石頭凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010603558.0 | 申請日： | 2010-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN102161598A | 公開（公告）日： | 2011-08-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳樹波 | 申請（專利權(quán)）人： | 陳樹波 |
| 主分類號： | C04B41/89 | 分類號： | C04B41/89 |
| 代理公司： | 汕頭市高科專利事務(wù)所 44103 | 代理人： | 王少明 |
| 地址： | 515646 廣東省潮州市鳳塘鎮(zhèn)*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 印度 石頭 凹凸 陶瓷 制造 方法 | ||
1.一種仿印度紅石頭凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法，其特征在于：包括以下步驟：
A.按重量百分比配制含氧化鐵25～35％，二氧化鋯65～75％的第一色基材料，按第一色基材料重量的50～60％加水研磨，按第一色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20∶100的比例將研磨后的第一色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50～52％的第一釉漿；
B.按重量百分比配制含氧化鈷14～16％，氧化鎳9～11％，三氧化二鉻14～16％，氧化鐵18～22％，二氧化錳38～42％的第二色基材料，按第二色基材料重量的50～60％加水研磨，按第二色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20∶100的比例將研磨后的第二色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50～52％的第二釉漿；
C.按重量百分比配制含二氧化錫11～13％，二氧化鋯78～82％，氧化鎳4～6％，氧化鈷2～4％的第三色基材料，按第三色基材料重量的50～60％加水研磨，按第三色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20∶100的比例將研磨后的第三色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50～52％的第三釉漿；
D.按重量百分比配制含三氧化二硼38～42％，氧化鈣28～32％，氧化鍶14～16％，氧化鋅14～16％的第四色基材料，按第四色基材料重量的50～60％加水研磨，按第四色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20∶100的比例將研磨后的第四色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50～52％的第四釉漿；
E.在陶瓷坯體上施第一釉漿，自然干燥0.5～1小時后施第二釉漿，再自然干燥1～1.5小時后施第三釉漿，再自然干燥1～1.5小時后施第四釉漿，第一釉漿、第二釉漿、第三釉漿和第四釉漿的用量之比為1∶0.35～0.40∶0.28～0.32∶0.20～0.30；
F.施釉后的陶瓷坯體進(jìn)行燒制：在200～800℃時每小時升溫180～200℃，800～1100℃時每小時升溫90～100℃，1100～1260℃時每小時升溫50～60℃，到達(dá)1260～1270℃時停火降溫，冷卻后陶瓷坯體成為仿印度紅石頭凹凸網(wǎng)紋陶瓷制品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿印度紅石頭凹凸紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟A中，第一色基材料的重量百分含量為氧化鐵30％，二氧化鋯70％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿印度紅石頭凹凸紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟B中，第二色基材料重量百分含量為氧化鈷15％，氧化鎳10％，三氧化二鉻15％，氧化鐵20％，二氧化錳40％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿印度紅石頭凹凸紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟C中，第三色基材料的重量百分含量為二氧化錫12％，二氧化鋯80％，氧化鎳5％，氧化鈷3％。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿印度紅石頭凹凸紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟D中，第四色基材料的重量百分含量為三氧化二硼40％，氧化鈣30％，氧化鍶15％，氧化鋅15％。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿印度紅石頭凹凸紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟E中，第一釉漿、第二釉漿、第三釉漿和第四釉漿的用量之比為1∶0.38∶0.30∶0.25。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿印度紅石頭凹凸紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟F中，燒制過程在溫度為800～900℃時，采用還原方式燒制，此外的其它溫度范圍采用氧化方式燒制。
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