[發(fā)明專(zhuān)利]拋光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010603419.8
• 申請(qǐng)日: 2010-12-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102554748A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔣莉;黎銘琦
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B24B29/00
• 分類(lèi)號(hào): B24B29/00;B24B53/007
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種拋光方法，其特征在于，包括：

對(duì)上一片晶圓的金屬材料完成拋光后，修整拋光墊；

向所述拋光墊噴射有機(jī)酸溶液；

向所述拋光墊噴射去離子水；

對(duì)所述拋光墊進(jìn)行去水處理；

向所述拋光墊噴射拋光液，對(duì)下一片晶圓的金屬材料進(jìn)行拋光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其特征在于，所述拋光墊的修整為非原位修整。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其特征在于，向所述拋光墊噴射有機(jī)酸溶液的流速為100～1000毫升/分鐘。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的拋光方法，其特征在于，向所述拋光墊噴射有機(jī)酸溶液時(shí)，拋光臺(tái)的轉(zhuǎn)速為10～150RPM。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其特征在于，向所述拋光墊噴射去離子水的流速為100～1000毫升/分鐘。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的拋光方法，其特征在于，向所述拋光墊噴射去離子水時(shí)，拋光臺(tái)的轉(zhuǎn)速為10～120RPM。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其特征在于，所述向所述拋光墊噴射拋光液包括：使所述拋光液布滿(mǎn)整個(gè)拋光墊。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的拋光方法，其特征在于，噴射拋光液的流速為100～1500毫升/分鐘，噴射的時(shí)間持續(xù)5～100秒。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其特征在于，所述有機(jī)酸為草酸、丙二酸、丁二酸、順丁烯二酸、鄰苯二甲酸或氨基酸。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其特征在于，所述有機(jī)酸溶液的濃度為0.01～10wt％。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其特征在于，所述金屬材料為鋁或鋁合金。