[發明專利]基于電渦流位移測量技術的微差壓表有效
| 申請號: | 201010602223.7 | 申請日: | 2010-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN102128701A | 公開(公告)日: | 2011-07-20 |
| 發明(設計)人: | 李巖峰;任克強 | 申請(專利權)人: | 北京塞爾瑟斯儀表科技有限公司 |
| 主分類號: | G01L13/02 | 分類號: | G01L13/02;G01B7/02 |
| 代理公司: | 北京中海智圣知識產權代理有限公司 11282 | 代理人: | 齊曉靜 |
| 地址: | 100083 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 渦流 位移 測量 技術 微差壓表 | ||
1.一種基于電渦流位移測量技術的微差壓表,包括殼體、設置在所述殼體上的表罩、設置在所述殼體內的片簧和測量膜片以及設置在所述測量膜片上端的膜片壓蓋,所述片簧的一端通過彈性部件與所述測量膜片相連接,另一端固定在所述殼體上,其特征在于:所述殼體內還設置有測量電路板,所述測量電路板位于所述片簧的上端,所述測量電路板上設置有儀表顯示器,所述測量膜片上設置有U型金屬片,所述U型金屬片的中心設置有與所述測量電路板相垂直的平面電感電路板,所述平面電感電路板通過直角彎針與所述測量電路板相連接。
2.根據權利要求1所述的基于電渦流位移測量技術的微差壓表,其特征在于:所述測量膜片為圓形,所述U型金屬片的底部固定端和所述彈性部件均設置在所述測量膜片的圓心位置。
3.根據權利要求1或2所述的基于電渦流位移測量技術的微差壓表,其特征在于:所述U型金屬片與所述平面電感電路板非接觸。
4.根據權利要求3所述的基于電渦流位移測量技術的微差壓表,其特征在于:所述U型金屬片為U型銅片。
5.根據權利要求1所述的基于電渦流位移測量技術的微差壓表,其特征在于:所述測量電路板還與固定在所述殼體上的電連接器相連接。
6.根據權利要求5所述的基于電渦流位移測量技術的微差壓表,其特征在于:所述電連接器穿過所述殼體被硅膠密封在所述殼體上。
7.根據權利要求1所述的基于電渦流位移測量技術的微差壓表,其特征在于:所述表罩為密封透明罩,所述密封透明罩與所述殼體的連接處設置有密封圈。
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