[發(fā)明專利]測量系統(tǒng)、光刻設(shè)備和測量方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010600440.2 | 申請日: | 2008-03-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102096332A | 公開(公告)日: | 2011-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬克·威廉姆斯·瑪麗亞·范德威吉斯特;恩格爾伯塔斯·安東尼納斯·弗朗西絲克斯·范德帕斯奇;克恩·雅克布斯·約翰尼斯·瑪麗亞·扎安爾 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;G01D5/38 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 測量 系統(tǒng) 光刻 設(shè)備 測量方法 | ||
1.一種編碼器類型的測量系統(tǒng),所述測量系統(tǒng)被配置用于測量可移動(dòng)對象的位置依賴信號(hào),所述測量系統(tǒng)包括:
至少一個(gè)傳感器,可安裝在靜止的框架上;
傳感器目標(biāo)對象,可安裝在可移動(dòng)對象上;
撓性安裝裝置,所述撓性安裝裝置被配置用于將所述傳感器目標(biāo)對象安裝到所述可移動(dòng)對象上;以及
補(bǔ)償裝置,所述補(bǔ)償裝置被配置用于至少部分地補(bǔ)償所述傳感器目標(biāo)對象相對于所述可移動(dòng)對象的運(yùn)動(dòng)、或變形、或運(yùn)動(dòng)和變形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng),其中所述補(bǔ)償裝置包括阻尼裝置,所述阻尼裝置被配置用于衰減所述傳感器目標(biāo)對象的運(yùn)動(dòng)、或者變形、或者運(yùn)動(dòng)和變形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測量系統(tǒng),其中所述阻尼裝置是無源阻尼裝置或有源阻尼裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng),其中所述補(bǔ)償裝置包括反饋位置控制系統(tǒng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng),其中所述補(bǔ)償裝置包括:
阻尼裝置,所述阻尼裝置被配置用于在所述傳感器目標(biāo)對象的諧振頻率范圍內(nèi)進(jìn)行補(bǔ)償;和
位置控制系統(tǒng),所述位置控制系統(tǒng)被配置用于在低于所述諧振頻率范圍的頻率范圍內(nèi)進(jìn)行補(bǔ)償。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng),其中所述補(bǔ)償裝置包括固定裝置,所述固定裝置被配置用于在所述可移動(dòng)對象的高精度運(yùn)動(dòng)過程中固定所述傳感器目標(biāo)對象,以便以至少一個(gè)自由度相對于所述可移動(dòng)對象固定所述傳感器目標(biāo)對象。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的測量系統(tǒng),其中所述固定裝置能夠以六個(gè)自由度固定所述傳感器目標(biāo)對象。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng),其中所述安裝裝置包括:
多個(gè)撓性元件,配置成將所述傳感器目標(biāo)對象耦合至所述可移動(dòng)對象,至少一個(gè)所述撓性元件在至少一個(gè)自由度上是撓性的。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng),其中所述傳感器目標(biāo)對象包括光柵或柵格。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng),其中所述可移動(dòng)對象是光刻設(shè)備的襯底臺(tái)或掩模版臺(tái)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng),其中所述位置依賴信號(hào)是所述可移動(dòng)對象的位置、速度或加速度信號(hào)。
12.一種光刻設(shè)備,所述光刻設(shè)備包括:
圖案形成裝置支撐件,構(gòu)造用于支撐圖案形成裝置,所述圖案形成裝置能夠?qū)D案在輻射束的橫截面上賦予輻射束,以形成圖案化的輻射束;
襯底支撐件,構(gòu)造用于保持襯底;以及
投影系統(tǒng),配置用于將所述圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上;以及
測量系統(tǒng),所述測量系統(tǒng)用于測量所述支撐件中的一個(gè)支撐件相對于靜止的框架的位置依賴信號(hào),所述測量系統(tǒng)包括:
至少一個(gè)傳感器,可安裝在靜止的框架上;
傳感器目標(biāo)對象,可安裝在所述支撐件中的一個(gè)支撐件上;
撓性安裝裝置,所述撓性安裝裝置配置用于將所述傳感器目標(biāo)對象安裝到所述支撐件中的一個(gè)支撐件上;以及
補(bǔ)償裝置,所述補(bǔ)償裝置配置用于至少部分地補(bǔ)償所述傳感器目標(biāo)對象相對于所述支撐件中的一個(gè)支撐件的運(yùn)動(dòng)、或者變形、或所述運(yùn)動(dòng)和變形。
13.一種編碼器類型的測量系統(tǒng),配置用于測量可移動(dòng)對象的位置依賴信號(hào),所述測量系統(tǒng)包括:
至少一個(gè)傳感器,可安裝在靜止的框架上;
傳感器目標(biāo)對象,可安裝在所述可移動(dòng)對象上;
撓性安裝裝置,所述撓性安裝裝置被配置用于將所述至少一個(gè)傳感器安裝到所述靜止的框架上;以及
補(bǔ)償裝置,所述補(bǔ)償裝置被配置用于至少部分地補(bǔ)償所述至少一個(gè)傳感器相對于所述靜止的框架的運(yùn)動(dòng)、或變形、或運(yùn)動(dòng)和變形。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的測量系統(tǒng),其中所述補(bǔ)償裝置包括:
阻尼裝置,配置用于衰減所述至少一個(gè)傳感器的運(yùn)動(dòng)、或者變形、或者運(yùn)動(dòng)和變形。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的測量系統(tǒng),其中所述阻尼裝置是無源阻尼裝置或有源阻尼裝置。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的測量系統(tǒng),其中所述補(bǔ)償裝置包括反饋位置控制系統(tǒng)。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
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