[發明專利]場發射陰極裝置及場發射顯示器

有效

• 申請號: 201010600408.4
• 申請日: 2010-12-22
• 公開（公告）號: CN102074441A
• 公開（公告）日: 2011-05-25
• 發明（設計）人: 郝海燕;唐潔;范守善
• 申請（專利權）人: 清華大學;鴻富錦精密工業（深圳）有限公司
• 主分類號: H01J29/04
• 分類號: H01J29/04;H01J29/08;H01J29/86;H01J31/12
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1.一種場發射陰極裝置，包括：

一絕緣基底；

多個條形陰極相互平行且等間隔設置于該絕緣基底的表面；

多個隔離體間隔設置于所述絕緣基底的表面；

多個條形柵網相互平行且等間隔設置，該多個條形柵網與多個條形陰極異面垂直且交叉設置，每一條形柵網均通過所述隔離體支撐，與所述條形陰極間隔設置；

多個場發射元件分別設置于所述多個條形陰極與所述多個條形柵網的交叉位置并與所述條形陰極電連接；

多個固定層分別對應于所述多個隔離體設置于所述條形柵網表面，將條形柵網夾持于所述固定層與隔離體之間，

其特征在于，所述多個隔離體分別位于所述多個條形陰極之間并與所述條形陰極間隔設置，所述場發射陰極裝置滿足以下條件：

D1≤D2/10，其中，所述隔離體的寬度定義為D1，相鄰兩個場發射元件的中心線之間的距離定義為D2。

2.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，D2小于等于5毫米。

3.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，D1小于等于500微米且大于等于100微米。

4.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，所述場發射陰極裝置進一步滿足以下條件：0.125≤D3/D2≤0.48，其中，所述場發射元件的徑向尺寸定義為D3。

5.如權利要求4所述的場發射陰極裝置，其特征在于，所述隔離體與場發射元件之間的距離大于等于150微米。

6.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，所述場發射陰極裝置進一步滿足以下條件：5μm≤H≤100μm；其中，所述隔離體的高度定義為H。

7.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，所述多個隔離體中的每一隔離體距與之相鄰的兩場發射元件之間的距離相等。

8.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，沿平行于條形陰極的方向，相鄰的兩個條形陰極之間僅設置一個隔離體，該隔離體支撐多個條形柵網。

9.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，沿平行于條形陰極的方向，相鄰的兩個條形陰極之間設置多個隔離體，每個隔離體支撐一個條形柵網。

10.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，沿平行于條形柵網的方向，每間隔多個條形陰極設置一個隔離體。

11.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，所述固定層填充條形柵網的位于隔離體上方的柵孔，與隔離體結合在一起，將所述條形柵網固定于所述隔離體與固定層之間。

12.如權利要求11所述的場發射陰極裝置，其特征在于，所述固定層對應柵網的非柵孔區域的厚度小于等于10微米。

13.如權利要求1所述的場發射陰極裝置，其特征在于，進一步包括多個導電層分別設置于所述多個固定層遠離條形柵網的表面。

14.一種場發射顯示器，其包括一陽極裝置及一如權利要求1至13中任一項所述的場發射陰極裝置與該陽極裝置間隔設置。