[發(fā)明專利]一種基片承載裝置及應(yīng)用該裝置的基片處理設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010600276.5
• 申請(qǐng)日: 2010-12-13
• 公開（公告）號(hào): CN102560432A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 董志清
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): C23C16/458
• 分類號(hào): C23C16/458
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 張?zhí)焓?陳源

1.一種基片承載裝置，包括基座、分布于所述基座上的用于承載基片的多個(gè)托盤，其特征在于，還包括與所述基座及托盤相連接的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，用于驅(qū)動(dòng)所述基座及托盤進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片承載裝置，其特征在于，所述基座和托盤在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行行星式旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片承載裝置，其特征在于，所述基座和托盤在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行各自獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片承載裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)和傳動(dòng)部。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基片承載裝置，其特征在于，所述傳動(dòng)部包括旋轉(zhuǎn)軸及傳動(dòng)齒輪；其中，所述旋轉(zhuǎn)軸包括基座旋轉(zhuǎn)軸和與所述托盤數(shù)量相對(duì)應(yīng)的托盤旋轉(zhuǎn)軸，所述傳動(dòng)齒輪將所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)力傳輸至各個(gè)旋轉(zhuǎn)軸，以驅(qū)動(dòng)所述基座及托盤進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基片承載裝置，其特征在于，所述基座上設(shè)置有多個(gè)托盤軸孔，所述托盤旋轉(zhuǎn)軸穿過(guò)所述基座上的托盤軸孔而與所述托盤相連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片承載裝置，其特征在于，還包括設(shè)置在所述基座下方的隔熱部。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基片承載裝置，其特征在于，所述基座旋轉(zhuǎn)軸為空心結(jié)構(gòu)，在所述基座旋轉(zhuǎn)軸的內(nèi)部設(shè)置有中心進(jìn)氣部，用于向所述托盤表面噴射工藝氣體。

9.一種基片處理設(shè)備，包括工藝腔室，其特征在于，在所述工藝腔室的內(nèi)部設(shè)置有權(quán)利要求1-8中任意一項(xiàng)所述的基片承載裝置，用以在工藝過(guò)程中承載基片。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基片處理設(shè)備，其特征在于，所述基片處理設(shè)備包括金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相淀積設(shè)備。