[發明專利]一種凹面全息光柵曝光光路中實時監測裝置的調整方法

無效

• 申請號: 201010599705.1
• 申請日: 2010-12-22
• 公開（公告）號: CN102087481A
• 公開（公告）日: 2011-06-08
• 發明（設計）人: 孔鵬;李文昊;巴音賀希格;唐玉國;齊向東
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B5/18
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所 22210
• 代理人: 劉樹清

1.一種凹面全息光柵曝光光路中實時監測裝置的調整方法，其特征在于：步驟一，配備一套凹面全息光柵曝光裝置，包括光源激光器(1)、第一平面反射鏡(2)、分光鏡(3)、第二平面反射鏡(4)、第三平面反射鏡(5)、第一空間濾波器(6)、第二空間濾波器(7)、干涉場(8)和光柵基底(9)；在光源激光器(1)的激光束傳播方向的光軸上置有第一平面反射鏡(2)；在第一平面反射鏡(2)的反射光的光路上置有分光鏡(3)，在分光鏡(3)的反射光的光路上置有第二平面反射鏡(4)，在分光鏡(3)的透射光的光路上置有第三平面反射鏡(5)，在第二平面反射鏡(4)的反射光的光路上置有第一空間濾波器(6)，在第三平面反射鏡(5)的反射光的光路上置有第二空間濾波器(7)，從第一空間濾波器(6)和第二空間濾波器(7)出射的球面光波在空間交匯區域形成干涉場(8)，兩束球面光波的波源點分別位于第一空間濾波器(6)和第二空間濾波器(7)的針孔處，在干涉場(8)內放置被制作的凹面全息光柵的光柵基底(9)，光柵基底(9)的位置就是全息光柵的曝光位置；步驟二，將凹面全息光柵曝光裝置中的光柵基底(9)進行試制，通過曝光、顯影使其轉化為具有浮雕輪廓的全息光柵(10)，將全息光柵(10)再放回曝光光路中，調整全息光柵(10)的方位以及滾轉，使第一空間濾波器(6)的出射光束經全息光柵(10)的一級衍射光與第二空間濾波器(7)的出射光束經全息光柵(10)的零級光重合，即這兩束光沿相同方向傳播，在兩束光的傳播方向上放置接收屏(11)則能在接收屏(11)上看到干涉條紋，此時全息光柵(10)的刻線分布與干涉場(8)的條紋分布一致，即全息光柵(10)的位置被復原到了原光柵基底(9)所在的位置；步驟三，將接收屏(11)撤去，將監測激光器(12)與光電探測器(13)置于凹面全息光柵曝光裝置中，使監測激光器(12)的出射光照射在全息光柵(10)表面，將光電探測器(13)放置在監測激光器(12)的出射光經全息光柵(10)衍射后產生的衍射光的光軸上，至此凹面全息光柵曝光光路中所使用的實時監測裝置調整完畢。