[發(fā)明專利]燒結(jié)釹鐵硼磁體表面磁控濺射鍍覆不銹鋼防護層的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010592932.1 | 申請日: | 2010-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN102002669A | 公開(公告)日: | 2011-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 袁慶龍;范廣新;張寶慶;李強;劉寶忠 | 申請(專利權(quán))人: | 河南理工大學 |
| 主分類號: | C23C14/16 | 分類號: | C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司: | 鄭州紅元帥專利代理事務(wù)所(普通合伙) 41117 | 代理人: | 楊妙琴 |
| 地址: | 454000 河南*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 燒結(jié) 釹鐵硼 磁體 表面 磁控濺射 鍍覆 不銹鋼 防護 方法 | ||
1.一種燒結(jié)釹鐵硼磁體表面磁控濺射鍍覆不銹鋼防護層的方法,其特征在于:該方法包括以下步驟:?
?第一步、對釹鐵硼磁體表面進行拋光、除油處理,吹干后裝爐;
第二步、抽真空至5×10-3-10-1Pa,通氬氣至18~35Pa,接通直流電源甲,在釹鐵硼磁體與真空室殼體之間加上180~450伏負偏壓,?通過輝光離子轟擊對釹鐵硼磁體表面進行凈化、活化預(yù)處理,清除釹鐵硼磁體表面的油膜、氧化膜,轟擊時間5~12min?,然后關(guān)閉直流電源甲;
第三步、接通直流電源乙,在不銹鋼磁控濺射靶與真空室殼體之間加上350~550伏負偏壓,通過輝光離子轟擊不銹鋼磁控濺射靶,使靶材表面原子以一定能量逸出,然后沉積在釹鐵硼磁體表面上,形成均勻的鍍覆防護層,時間90~300min,由鍍層厚度而定;
第四步、關(guān)閉直流電源乙,在氬氣保護下降溫,出爐后進行拋光處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體表面磁控濺射鍍覆不銹鋼防護層的方法,其特征在于:所述的步驟一中拋光處理是指,對釹鐵硼磁體表面待鍍部位先用1000~1200目砂布輪打磨再用棉布輪拋光,為隨后施鍍做準備,并為鍍覆完成后拋光做前期準備。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體表面磁控濺射鍍覆不銹鋼防護層的方法,其特征在于:所述的步驟一中除油處理是指,用脫脂棉蘸上丙酮或酒精擦拭釹鐵硼磁體表面,用吹風機吹干。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體表面磁控濺射鍍覆不銹鋼防護層的方法,其特征在于:所述的步驟二和三抽真空至0.005~0.5Pa,充氬后真空度18~35Pa,直流電源甲負偏壓180~450伏,轟擊時間5~12min,關(guān)閉直流電源甲后才開啟直流電源乙,直流電源乙負偏壓350~550伏,直流電源亦可一機兩用。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體表面磁控濺射鍍覆不銹鋼防護層的方法,其特征在于:所述的步驟二和三的工藝參數(shù):抽真空至0.01~0.1Pa,充氬后真空度22~30Pa,直流電源甲負偏壓250~380伏,轟擊時間6~10min,直流電源乙負偏壓380~480伏。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體表面磁控濺射鍍覆不銹鋼防護層的方法,其特征在于:所述的不銹鋼靶材為鉻型不銹鋼或特殊不銹鋼。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體表面磁控濺射鍍覆不銹鋼防護層的方法,其特征在于:所述的鍍覆防護層為鉻型不銹鋼或特殊不銹鋼。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





