[發明專利]一種多步沉淀合成氧化鎳前驅體方法和氧化鎳制備方法有效
| 申請號: | 201010592464.8 | 申請日: | 2010-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN102070209A | 公開(公告)日: | 2011-05-25 |
| 發明(設計)人: | 何顯達;蘇陶貴;譚翠麗 | 申請(專利權)人: | 荊門市格林美新材料有限公司;深圳市格林美高新技術股份有限公司 |
| 主分類號: | C01G53/04 | 分類號: | C01G53/04 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 448124 湖北省荊*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 沉淀 合成 氧化 前驅 方法 制備 | ||
技術領域
本發明涉及一種多步沉淀合成氧化鎳前驅體方法和氧化鎳制備方法。
背景技術
傳統工業中,一般先將鎳廢料、原料溶于鹽酸,制成NiCl2浸出溶液,然后在NiCl2浸出溶液中添加Na2CO3,以生成氧化鎳的前驅體NiCO3沉淀,再將沉淀煅燒成氧化鎳。該工藝的缺點是NiCO3沉淀中的雜質Na+含量偏高,不好過濾。
有學者在NiCl2浸出溶液中添加(NH4)2C2O4,生成氧化鎳的前驅體NiC2O4沉淀,再將草酸鎳煅燒生成氧化鎳。該工藝的缺點是草酸銨成本高,而且制備的氧化鎳顆粒尺寸較大,不好控制氧化鎳的粒徑。
另外,現有的第三種制備氧化鎳的方法是在NiCl2浸出溶液中添加NH4HCO3溶液,生成碳酸鎳沉淀的混合物,再將混合物煅燒得到氧化鎳。這種工藝的缺點是Ni2+的沉淀率低,會造成大量鎳流失。
發明內容
有鑒于此,本發明提供一種多步沉淀合成氧化鎳前驅體方法,該方法采用多步沉淀合成氧化鎳前驅體,既有效避免了Na+雜質的引入,又有效提高了Ni2+的沉淀率,同時還有效控制了氧化鎳前驅體粉末的粒度。
以及,一種氧化鎳制備方法。
本發明解決上述技術問題所采用的技術方案是:
一種多步沉淀合成氧化鎳前驅體方法,包括如下步驟:
將NiCl2溶液與NH4HCO3溶液混合,進行生成碳酸鎳的沉淀反應;
將所述沉淀反應形成的產物進行固液分離,分別得到碳酸鎳沉淀物以及含Ni2+的溶液;
將所述含Ni2+的溶液加熱,加入固體草酸,進行生成草酸鎳的沉淀反應,反應完畢后進行固液分離,得到草酸鎳沉淀物;
將所述碳酸鎳沉淀物和所述草酸鎳沉淀物洗滌、干燥,得到所述氧化鎳前驅體。
以及,一種氧化鎳制備方法,包括如下步驟:
制備氧化鎳前驅體,所述鎳前驅體是按上述的多步沉淀合成氧化鎳前驅體方法制備而成;
將所制備的氧化鎳前驅體煅燒,得到所述氧化鎳。
本發明方法采用多步沉淀合成氧化鎳前驅體,既有效避免了Na+雜質的引入,又有效提高了Ni2+的沉淀率,降低了含重金屬廢水的排放量和草酸的用量,環保、經濟,同時有效減小了氧化鎳前驅體粉末的粒徑,為氧化鎳的制備提供優良的原料。另外,該多步沉淀合成氧化鎳前驅體方法和氧化鎳制備方法工藝簡單,易控,成本低,適合工業化生產。
附圖說明
下面將結合附圖及實施例對本發明作進一步說明,附圖中:
圖1為本發明多步沉淀合成氧化鎳前驅體方法制備工藝流程圖。
具體實施方式
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明,并不用于限定本發明。
本發明實施例提供一種多步沉淀合成氧化鎳前驅體方法,包括如下步驟:
(1)將NiCl2溶液與NH4HCO3溶液混合,進行生成碳酸鎳的沉淀反應;
(2)將所述沉淀反應形成的產物進行固液分離,分別得到碳酸鎳沉淀物以及含Ni2+的溶液Ⅰ;
(3)將所述含Ni2+的溶液Ⅰ加熱,加入固體草酸,進行生成草酸鎳的沉淀反應,反應完畢后進行固液分離,得到草酸鎳沉淀物;
(4)將所述碳酸鎳沉淀物和所述草酸鎳沉淀物洗滌、干燥,得到所述氧化鎳前驅體。
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