[發明專利]一種含有機酸性物質的化學機械拋光液無效
| 申請號： | 201010591179.4 | 申請日： | 2010-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN102559057A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發明（設計）人： | 徐春 | 申請（專利權）人： | 安集微電子（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區龍*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 有機 酸性 物質 化學 機械拋光 | ||
1.一種含有機酸性物質的化學機械拋光液，其特征在于，包括：研磨顆粒和速率提升劑；所述速率提升劑為與強堿介質混合過程中發生反應放熱的有機酸性物質。
2.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述有機酸性物質為檸檬酸、檸檬酸氫胺、檸檬酸氫二銨、乙二胺四乙酸、唑類化合物中的一種或幾種的混合。
3.根據權利要求2所述的化學機械拋光液，其特征在于，其中，所述速率提升劑的質量百分比含量為1~10%。
4.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒為氧化硅、氧化鋁、氧化鈰、聚合物顆粒中的一種或幾種的混合。
5.根據權利要求4所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的質量百分比含量為0.5~10%。
6.根據權利要求4所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的粒徑為20~200nm。
7.根據權利要求6所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的粒徑為30~100nm。
8.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，還包括pH調節劑。
9.根據權利要求8所述化學機械拋光液，其特征在于，所述pH調節劑為堿性物質或硝酸。
10.根據權利要求9所述的含有機酸性物質的化學機械拋光液，其特征在于，所述堿性物質為四甲基氫氧化胺、四乙基氫氧化胺、四丙基氫氧化胺、氨水、氫氧化鉀、乙醇胺、三乙醇胺中的一種或幾種的混合。
11.根據權利要求1所述的含有機酸性物質的化學機械拋光液，其特征在于，所述化學機械拋光液的pH值為8.0~13.0。
12.根據權利要求11所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述化學機械拋光液的pH值為9.5~13.0。
13.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，還包括表面活性劑、穩定劑、抑制劑、殺菌劑中的一種或幾種的混合。
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