[發明專利]一種用于拋光合金相變材料的化學機械拋光液有效
| 申請號： | 201010591176.0 | 申請日： | 2010-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN102559056A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發明（設計）人： | 龐可亮 | 申請（專利權）人： | 安集微電子（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區龍*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 拋光 合金 相變 材料 化學 機械拋光 | ||
1.一種用于拋光合金相變材料的化學機械拋光液，其特征在于，包含水、研磨顆粒、氧化劑和去除速率促進劑；所述促進劑至少包括一種或多種可溶性含鎢化合物。
2.根據權利要求1所述的用于拋光合金相變材料的化學機械拋光液，其特征在于，所述含鎢化合物為含(WO3)m·(H2O)n通式的各種鎢酸、各種鎢酸鹽、含鎢的雜多酸，或含鎢的雜多酸鹽；其中m、n均為正整數，1≤m≤12，1≤n≤20。
3.根據權利要求2所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述含鎢化合物為正鎢酸、正鎢酸鹽、偏鎢酸、偏鎢酸鹽、磷鎢酸、磷鎢酸鹽、硅鎢酸，或硅鎢酸鹽。
4.根據權利要求3所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述鹽為鉀鹽或銨鹽。
5.根據權利要求4所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的含鎢化合物為鎢酸鉀。
6.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述去除速率促進劑的重量百分含量為0.001~2.0?%。
7.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化劑為過氧化氫、過氧化脲、過氧甲酸、過氧乙酸、過硫酸鹽、過碳酸鹽、高碘酸、高氯酸、高硼酸、高錳酸鉀和硝酸鐵中的一種或多種。
8.根據權利要求7所述的化學機械拋光液，其特征在于，其中，所述氧化劑重量百分含量為0.01~10.0?%。
9.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒包括二氧化硅、氧化鋁、摻雜鋁或覆蓋鋁的二氧化硅、二氧化鈰、二氧化鈦、或高分子研磨顆粒中一種或多種。
10.根據權利要求8所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅研磨顆粒包括鍛造二氧化硅或是膠體二氧化硅。
11.根據權利要求9所述的化學機械拋光液，其特征在于，其中，所述研磨顆粒的重量百分含量為0.01~5.0?%。
12.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，所述促進劑還包括硝酸或是硝酸鹽。
13.根據權利要求12所述的化學機械拋光液，其特征在于，其中，所述硝酸或硝酸鹽重量百分含量為0~0.01?%。
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