[發明專利]量子點納米材料的制備方法及其表面包覆二氧化硅的方法無效
| 申請號: | 201010588938.1 | 申請日: | 2010-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN102079978A | 公開(公告)日: | 2011-06-01 |
| 發明(設計)人: | 張家雨;王凱;楊伯平;崔一平 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | C09K11/88 | 分類號: | C09K11/88;C09K11/02;H01L33/50;H01L33/48 |
| 代理公司: | 南京天翼專利代理有限責任公司 32112 | 代理人: | 周靜 |
| 地址: | 210096 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 量子 納米 材料 制備 方法 及其 表面 二氧化硅 | ||
1.一種量子點納米材料的制備方法,其特征在于包括以下步驟:
(1)制備ZnSe量子點,提純后溶于正己烷;
(2)取(1)中的ZnSe量子點0.24mmol,加入油胺、十八碳烯,在氬氣氣氛下,加熱到120℃,在此溫度下停留5-6分鐘,注入MnSt2/ODE,穩定5-6分鐘后升溫到270-280℃,停留5-6分鐘,注入Se/TBP并在此溫度下停留5-6分鐘,注入ZnSt2/ODE,反應20-25分鐘,得到量子點納米材料,其中MnSt2、Se和ZnSt2的注入量分別為0.032-0.04mmol、0.48-0.49mmol、0.34-0.425mmol。
2.如權利要求1所述的量子點納米材料的制備方法,其特征在于步驟(2)中,MnSt2/ODE的濃度為0.02-0.025M,Se/TBP的濃度為2.4-2.45M,ZnSt2/ODE的濃度為0.2-0.25M。
3.在權利要求1或2所述制備方法所得量子點納米材料表面包覆二氧化硅的方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)將純化的量子點納米材料溶于正己烷,用巰基丙酸轉水,得到量子點水溶液;
(2)在3-氨丙基三乙氧基硅烷中加入量子點水溶液,攪拌均勻,反應形成溶膠。
4.如權利要求3所述在量子點納米材料表面包覆二氧化硅的方法,其特征在于,還包括步驟(3):將LED倒置于步驟(2)所得溶膠中,隨著3-氨丙基三乙氧基硅烷的水解固化,LED被封裝在二氧化硅中。
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