[發(fā)明專利]氧化物蒸鍍材料和高折射率透明膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010583539.6 | 申請日： | 2010-12-07 |
| 公開（公告）號： | CN102134700A | 公開（公告）日： | 2011-07-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 阿部能之;和氣理一郎;桑原正和;前野泰行 | 申請（專利權(quán)）人： | 住友金屬礦山株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08;C23C14/24;G02B1/11;G02B11/00 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人： | 菅興成;吳小瑛 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氧化物 材料 折射率 透明 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種氧化物蒸鍍材料，其特征在于，
由以氧化銦作為主要成分且含有鈰的燒結(jié)體構(gòu)成，并且，鈰的含量以Ce/In原子數(shù)比為超過0.110且0.538以下，CIE1976色系中的L*值為62～95。
2.一種高折射率透明膜，其特征在于，
采用氧化物蒸鍍材料作為原料，通過電子束蒸鍍法、離子鍍法或者高密度等離子輔助蒸鍍法得以成膜，并且鈰的含量以Ce/In原子數(shù)比為超過0.110且0.538以下，同時波長550nm下的折射率為2.15～2.51，
其中，所述氧化物蒸鍍材料是由以氧化銦作為主要成分且含有鈰的燒結(jié)體構(gòu)成，并且，鈰的含量以Ce/In原子數(shù)比為超過0.110且0.538以下，CIE1976色系中的L*值為62～95。
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- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
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C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
