[發(fā)明專利]一種釕金屬濺射靶材的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010581909.2 | 申請日： | 2010-12-06 |
| 公開（公告）號： | CN102485378A | 公開（公告）日： | 2012-06-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 羅俊鋒;丁照崇;何金江;王欣平;江軒 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京有色金屬研究總院;有研億金新材料股份有限公司 |
| 主分類號： | B22F3/14 | 分類號： | B22F3/14;C23C14/14;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京北新智誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11100 | 代理人： | 耿小強 |
| 地址： | 100088 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 金屬 濺射 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種釕金屬濺射靶材制備方法，其特征在于：通過直接熱壓的方法制備釕金屬濺射靶材，熱壓溫度為1400℃～1700℃，壓力為35MPa，保溫保壓時間為10～60min。
2.權(quán)利要求1所述的釕金屬濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述熱壓溫度的升溫過程分為兩個階段：室溫到1200℃，加熱速率為50℃·min-1；1200℃到熱壓溫度，加熱速率為25℃·min-1。
3.權(quán)利要求2所述的釕金屬濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述升溫過程中，當溫度達到1000℃時保溫10min。
4.權(quán)利要求1-3中任一項所述的釕金屬濺射靶材的制備方法所制備的釕金屬濺射靶材，其特征在于：其密度達到98％以上。
5.權(quán)利要求4所述的釕金屬濺射靶材的制備方法所制備的釕金屬濺射靶材，其特征在于：其平均晶粒尺寸為20μm以下。
6.權(quán)利要求5所述的釕金屬濺射靶材的制備方法所制備的釕金屬濺射靶材，其特征在于：其氧含量達到200ppm以下。
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