[發(fā)明專利]8英寸輕摻硅拋光片的拋光工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010581243.0 | 申請(qǐng)日： | 2010-12-10 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN102019582A | 公開(kāi)（公告）日： | 2011-04-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李翔;劉振福;李科技;武衛(wèi);張宇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B24B39/06 | 分類號(hào)： | B24B39/06;H01L21/304 |
| 代理公司： | 天津中環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 12105 | 代理人： | 王鳳英 |
| 地址： | 300384 天津市南開(kāi)區(qū)濱*** | 國(guó)省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 英寸 輕摻硅 拋光 工藝 | ||
1.一種8英寸輕摻硅拋光片的拋光工藝，其特征在于：對(duì)8英寸輕摻硅拋光片進(jìn)行兩次粗拋光、一次中拋光、一次精拋光，共四次拋光過(guò)程；每次拋光過(guò)程分為四個(gè)階段，其工藝步驟如下：
（1）、粗拋光加工：采用粗拋機(jī)進(jìn)行兩次粗拋光，每次粗拋光四個(gè)階段中每個(gè)階段的拋光壓力在1.5～2.2bar范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整設(shè)定，每次粗拋光四個(gè)階段的總拋光時(shí)間在8～11min范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整設(shè)定；
（2）、中拋光加工：采用中拋機(jī)進(jìn)行一次中拋光，中拋光四個(gè)階段中每個(gè)階段的拋光壓力在1.2～2.0bar范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整設(shè)定，中拋光四個(gè)階段的總拋光時(shí)間在7～10min范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整設(shè)定；
（3）、精拋光加工：采用精拋機(jī)進(jìn)行一次精拋光，精拋光四個(gè)階段中每個(gè)階段的拋光壓力在0.5～1bar范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整設(shè)定，精拋光四個(gè)階段的總拋光時(shí)間在7～10min范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整設(shè)定。
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