[發明專利]等離子清潔裝置

有效

• 申請號: 201010573196.5
• 申請日: 2010-12-03
• 公開（公告）號: CN102486986A
• 公開（公告）日: 2012-06-06
• 發明（設計）人: 何偉業
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;B08B7/00;H01L21/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種等離子清潔裝置，包括：等離子腔室，設置于等離子腔室內用于承載待清潔工件的基座；等離子體發生器，用于產生等離子體；離子加速器，用于產生加速電場加速等離子體中的離子形成離子束；其特征在于，還包括設置于所述離子束路徑上的過濾器，所述過濾器通過偏轉場偏轉離子束中離子的運動方向，過濾射向待清潔工件的離子。

2.如權利要求1所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述過濾器為電場過濾器，偏轉場為電場。

3.如權利要求2所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述電場過濾器包括：用于產生所述偏轉電場的電極板；設置于所述電極板間的過濾擋板，用于接收偏轉的離子。

4.如權利要求3所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述過濾擋板在所述電極板間等距并行排列。

5.如權利要求2所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述偏轉電場的電場方向垂直于加速電場。

6.如權利要求2所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述離子加速器包括位于基座上方正對所述基座的上電極板以及位于基座下方的下電極板；所述電場過濾器設置于基座與離子加速器的上電極板之間。

7.如權利要求2所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述離子加速器為電磁線圈加速器；所述電場過濾器設置于基座與離子加速器的電磁線圈之間。

8.如權利要求1所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述過濾器為磁場過濾器，偏轉場為磁場。

9.如權利要求8所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述磁場過濾器包括：用于產生所述偏轉磁場的電磁線圈；設置于所述電磁線圈間的過濾擋板，用于接收偏轉的離子。

10.如權利要求9所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述過濾擋板在所述電磁線圈間等距并行排列。

11.如權利要求8所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述偏轉磁場的方向垂直于加速電場。

12.如權利要求8所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述離子加速器包括位于基座上方正對所述基座的上電極板以及位于基座下方的下電極板；所述磁場過濾器設置于基座與離子加速器的上電極板之間。

13.如權利要求8所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述離子加速器為電磁線圈加速器；所述磁場過濾器設置于基座與離子加速器的電磁線圈之間。

14.如權利要求1所述的等離子清潔裝置，其特征在于，所述等離子體發生器為感應耦合等離子體發生器。

15.如權利要求1所述的等離子清潔裝置，其特征在于，還包括與等離子腔室連接的通氣管道，用于通入作為等離子體源的清潔氣體。