[發明專利]光盤裝置無效
| 申請號: | 201010573152.2 | 申請日: | 2010-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN102081933A | 公開(公告)日: | 2011-06-01 |
| 發明(設計)人: | 今井猛 | 申請(專利權)人: | 日立樂金資料儲存股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/085 | 分類號: | G11B7/085;G11B7/095 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光盤 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及光盤裝置,例如,適宜應用于能夠再現多層光盤的光盤裝置。
背景技術
一直以來,在DVD(digital?versatile?disc,數字多用途光盤)或者BD(藍光光盤)等光盤中,提出將記錄層多層化來作為用于增加記錄容量的方法,并且具有2層記錄層的光盤已得到實用化。而且,為了實現更大的容量,可以預料今后具有3層或者4層以上記錄層的多層光盤將會得以實用。
作為這種多層光盤中的記錄層的檢測方法,提出下述方法(例如,專利文獻1):利用聚焦誤差信號的振幅在記錄層的前后發生S形變動這一特點,使從光盤裝置的激光二極管發發射的光束的焦點位置在多層光盤的厚度方向上移動,根據這時在聚焦誤差信號中產生的S形的振幅(以下將其稱為S形振幅)的數量,對記錄層的數量或者作為目標的記錄層等進行檢測。
專利文獻1:日本特開2007-26557號公報
發明內容
但是,在使用了這種技術的光盤裝置中,在對多層光盤進行聚焦控制時,可能會將在盤表面發生的聚焦誤差信號的S形振幅誤檢測為在記錄層中發生的S形振幅,并將該盤表面錯誤地作為記錄層進行計數,因此有可能以使焦點聚焦到目標記錄層的前一個記錄層上的方式進行聚焦控制。
本發明是考慮以上諸點而完成的,提出了能夠高精度地進行聚焦控制的光盤裝置。
為解決該課題,本發明提供一種光盤裝置,能夠再現具有3層以上記錄層的光盤,其特征在于,包括:激光二極管,其發射激光;光電二極管,其接收被上述光盤反射的上述激光的反射光,對接收到的上述反射光進行光電變換(轉換)并加以輸出;光學系統,其包含物鏡,利用上述物鏡使從上述激光二極管發射的激光會聚到上述光盤的記錄層上,并利用上述物鏡將由上述光盤反射的反射光導向上述光電二極管;信號處理部,其根據上述光電二極管的輸出生成聚焦誤差信號;處理器,其根據由上述信號處理部生成的聚焦誤差信號來檢測上述記錄層;和致動器,其使包含在上述光學系統中的上述物鏡在上述光盤的厚度方向上移動,其中,上述處理器,通過控制上述致動器來使上述物鏡在上述光盤的厚度方向上移動,并且,對在移動上述物鏡的期間分別檢測到各上述記錄層的時間間隔進行測量,將從第一次檢測到上述記錄層至第二次檢測到上述記錄層的第一時間間隔與從第二次檢測到上述記錄層至第三次檢測到上述記錄層的第二時間間隔進行比較,根據比較結果,判定上述物鏡的焦點位置。
另外,本發明還提供一種光盤裝置,能夠再現具有3層以上記錄層的光盤,其特征在于,包括:激光二極管,其發射激光;光電二極管,其接收被上述光盤反射的上述激光的反射光,對接收到的上述反射光進行光電變換并加以輸出;光學系統,其包含物鏡,利用上述物鏡使從上述激光二極管發射的激光會聚到上述光盤的記錄層上,并利用上述物鏡將由上述光盤反射的反射光導向上述光電二極管;信號處理部,其根據上述光電二極管的輸出生成聚焦誤差信號;處理器,其根據由上述信號處理部生成的聚焦誤差信號來檢測上述記錄層;和致動器,其使包含在上述光學系統中的上述物鏡在上述光盤的厚度方向上移動,其中,上述處理器,通過控制上述致動器來使上述物鏡在上述光盤的厚度方向上移動,并且,對在移動上述物鏡的期間分別檢測到各上述記錄層時的上述致動器的驅動電壓分別進行測量,將第一次檢測到上述記錄層時的上述驅動電壓和第二次檢測到上述記錄層時的上述驅動電壓之間的第一電位差,與第二次檢測到上述記錄層時的上述驅動電壓和第三次檢測到上述記錄層時的上述驅動電壓之間的第二電位差進行比較,根據比較結果,判定上述物鏡的焦點位置。
利用本發明,可實現能夠進行合適的聚焦控制的光盤裝置。
附圖說明
圖1是表示本實施方式的光盤裝置的框圖。
圖2是表示光拾取器的概略結構的框圖。
圖3(A)和(B)是用于說明本申請發明的原理的示意圖。
圖4是用于說明在將光盤的表面誤檢測成記錄層時的光盤裝置的動作的波形圖。
圖5是用于說明在正確地檢測出光盤的記錄層時的光盤裝置的動作的波形圖。
圖6是表示第一實施方式的聚焦控制處理的處理步驟的流程圖。
圖7是表示第二實施方式的聚焦控制處理的處理步驟的流程圖。
圖8是表示第二實施方式的聚焦控制處理的處理步驟的流程圖。
圖9是表示第二實施方式的聚焦控制處理的處理步驟的流程圖。
圖10是表示第三實施方式的聚焦控制處理的處理步驟的流程圖。
圖11是用于說明第四實施方式的聚焦控制處理的概念圖。
附圖標記說明
1:光盤裝置
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