[發(fā)明專利]有機(jī)模板摻雜制備孔隙率可調(diào)控納米多孔減反增透薄膜的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010571940.8 | 申請(qǐng)日: | 2010-12-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102153290A | 公開(公告)日: | 2011-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃富強(qiáng);李德增 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號(hào): | C03C17/23 | 分類號(hào): | C03C17/23 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 200050 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī) 模板 摻雜 制備 孔隙率 調(diào)控 納米 多孔 減反增透 薄膜 方法 | ||
1.有機(jī)模板摻雜制備孔隙率可調(diào)控納米多孔減反增透薄膜的方法,其特征在于采用溶膠-凝膠技術(shù),用有機(jī)模板進(jìn)行復(fù)合摻雜,通過(guò)不同條件熱處理選擇性地去除有機(jī)模板,形成納米多孔減反增透薄膜結(jié)構(gòu),并可進(jìn)行孔隙率調(diào)節(jié);具體步驟是:
(1)有機(jī)模板的摻雜:
將分子量為1000-50,000的有機(jī)模板加入前驅(qū)溶膠中,在室溫條件下連續(xù)攪拌,得到摻雜的復(fù)合前驅(qū)溶膠;
(2)有機(jī)模板摻雜的薄膜制備:
將清洗后、干凈的基片通過(guò)提拉鍍膜技術(shù)豎直、勻速或旋涂鍍膜技術(shù)從步驟1制備的摻雜的復(fù)合前驅(qū)溶膠中根據(jù)不同需要制備不同層數(shù)的薄膜;
(3)有機(jī)模板的去除:
將制備的摻雜薄膜置于烘箱中,在100-800℃的條件固化2小時(shí)以上,自然冷卻后即可得到孔隙率可調(diào)節(jié)的納米多孔減反增透薄膜。
2.按權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于選用的基片為普通玻璃、石英玻璃或透明導(dǎo)電材料。
3.按權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于前驅(qū)溶膠為TiO2,SiO2,ZrO2或ZnO。
4.按權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于提拉鍍膜的速度控制在10-200mm/min范圍內(nèi),旋涂鍍膜的速度控制在1000-20000r/min范圍內(nèi)。
5.按權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于分子量控制在1000-50000范圍內(nèi)的有機(jī)模板為聚乙烯吡咯烷酮或聚乙二醇。
6.按權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于薄膜厚度控制在20-2500nm范圍內(nèi)的薄膜折射率控制在1.10-2.50范圍內(nèi),消光系數(shù)控制在0.0-0.1范圍內(nèi)。
7.按權(quán)利要求1或6所述的方法,其特征在于制備的薄膜層厚度h與提拉速度V成正比,介于hαV1/2和hαV3/2之間。
8.按權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所制備的SiO2多孔薄膜在太陽(yáng)光550nm處透過(guò)率可達(dá)99.4%,反射率低于0.9%,現(xiàn)實(shí)良好的寬帶增透性。
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