[發明專利]一種用于薄壁平面工件固定的真空吸附裝置

無效

• 申請號: 201010566830.2
• 申請日: 2010-11-30
• 公開（公告）號: CN102476300A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 張華民;馬海鵬;劉波
• 申請（專利權）人: 中國科學院大連化學物理研究所
• 主分類號: B23Q3/06
• 分類號: B23Q3/06
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 馬馳

1.一種用于薄壁平面工件固定的真空吸附裝置，其特征在于：

包括真空吸附板和密封蓋板，真空吸附板具有平整的上表面，于真空吸附板的上表面設有貫穿真空吸附板的n個吸氣孔，n≥2正整數；

于真空吸附板的下表面開設有m條互不連通的真空凹槽，每條真空凹槽至少與一個吸氣孔相連，真空凹槽與抽真空系統的吸氣管相連通，m≥2正整數；密封蓋板覆蓋于真空吸附板的下表面，將真空凹槽密封；這樣就于真空吸附板的上表面形成了m個互不連通的真空吸附區域。

2.按照權利要求1所述真空吸附裝置，其特征在于：

于真空凹槽所處的真空吸附板或密封蓋板板體壁面上設置有貫穿板體的孔道，孔道一端與一真空凹槽相連，另一端抽真空系統的吸氣管相連通，于孔道與吸氣管間設有開關閥。

3.按照權利要求1或2所述真空吸附裝置，其特征在于：所述抽真空系統為真空泵。

4.按照權利要求1所述真空吸附裝置，其特征在于：

所述吸氣孔內徑向設有環形凸臺。

5.按照權利要求1所述真空吸附裝置，其特征在于：

所述吸氣孔為階梯狀吸氣孔，靠近上表面的吸氣孔的孔徑大于靠近下表面的吸氣孔的孔徑。

6.按照權利要求4或5所述真空吸附裝置，其特征在于：所述吸氣孔內靠近上表面處放置有吸氣孔孔塞。

7.按照權利要求1或2所述真空吸附裝置，其特征在于：所述每條真空凹槽周邊均設有環形密封槽，其中放置有密封材料。