[發明專利]一種超微霧化噴涂方法

無效

• 申請號: 201010566053.1
• 申請日: 2010-11-30
• 公開（公告）號: CN102019264A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發明（設計）人: 宗潤福;汪明波
• 申請（專利權）人: 沈陽芯源微電子設備有限公司
• 主分類號: B05D1/36
• 分類號: B05D1/36;B05B7/02;B05B17/06;B05C9/14
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 張志偉

1.一種超微霧化噴涂方法，其特征在于：兩個或兩個以上噴嘴同態沿X-Y軸做二維掃描運動，將霧化后化學液涂覆于整個晶圓，旋轉晶圓，進行第二次噴涂，再重復旋轉噴涂，直到達到目標厚度。

2.按照權利要求1所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：噴嘴是超聲波噴嘴或者二流體噴嘴，化學液超微霧化，霧化后液體顆粒的直徑在0.1-200微米，霧化后液體小顆粒在加壓氣體的作用下加速噴向晶圓表面，晶圓處于加熱狀態，使化學品粘附于晶圓表面。

3.按照權利要求2所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：氣體壓力控制在0.5-1.5巴之間。

4.按照權利要求2所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：晶圓在被噴涂時處于加熱狀態，加熱溫度控制在50-120℃。

5.按照權利要求2所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：晶圓在被噴涂時處于固定狀態。

6.按照權利要求1所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：噴嘴位于待噴涂晶圓的垂直上方，噴嘴離待噴涂晶圓的距離在15-30毫米范圍內。

7.按照權利要求1所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：晶圓旋轉角度取30°的整倍數。

8.按照權利要求1所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：流進各噴嘴的液體流量控制在1-8ml/min。

9.按照權利要求1所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：噴嘴沿Y軸方向的掃描間距控制在4-10mm范圍內，噴嘴沿X軸方向的掃描速度控制在40-180mm/min。

10.按照權利要求1所述的超微霧化噴涂方法，其特征在于：噴嘴之間的距離S≥R+D，R為晶圓的半徑，D為噴嘴在晶圓上形成斑圈的大小。