[發明專利]一種化學機械拋光清洗液有效
| 申請號： | 201010564192.0 | 申請日： | 2010-11-26 |
| 公開（公告）號： | CN102477359A | 公開（公告）日： | 2012-05-30 |
| 發明（設計）人： | 徐春 | 申請（專利權）人： | 安集微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號： | C11D7/26 | 分類號： | C11D7/26;C11D7/32;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區張江高*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 清洗 | ||
1.一種化學機械拋光清洗液，其包含：
a)有機酸，
b)含氮化合物，
c)水。
2.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述有機酸的濃度為1～10wt％。
3.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述含氮化合物的濃度為0.01～10wt％。
4.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述水為去離子水。
5.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述水為余量。
6.如權利要求1或2所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述有機酸選自氨基酸、檸檬酸、檸檬酸氫胺、檸檬酸氫二胺和乙二胺四乙酸中的一種或幾種。
7.如權利要求1或3所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述含氮化合物為含-NH結構的胺類化合物。
8.如權利要求7所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述胺類化合物為唑類，胍類和/或亞胺。
9.如權利要求8所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述胺類化合物選自1，2，4-三氮唑、5-氨基四氮唑、鹽酸雙胍、聚亞酰胺和3-氨基四氮唑中的一種或幾種。
10.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述清洗液的pH值為8.0～12.0。
11.如權利要求10所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述清洗液的pH值為9.5～11.5。
12.如權利要求1或10所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述清洗液還包含pH調節劑。
13.如權利要求12所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述pH調節劑為堿。
14.如權利要求13所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述堿選自四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、氨水、氫氧化鉀、乙醇胺和三乙醇胺中的一種或幾種。
15.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述清洗液還包括表面活性劑，穩定劑，抑制劑和/或殺菌劑。
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