[發(fā)明專利]殼體及其制作方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010560959.2
• 申請(qǐng)日: 2010-11-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102480863A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;黃嘉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): H05K5/00
• 分類號(hào): H05K5/00;C23C14/35;C23C14/06
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，其特征在于：該色彩層為氮氧化錫層，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標(biāo)介于35至38之間，a^*坐標(biāo)介于3至4之間，b^*坐標(biāo)介于-10至-15之間。

2.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于：所述色彩層的厚度為300～450nm。

3.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于：所述色彩層呈現(xiàn)藍(lán)色。

4.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于：所述基體的材質(zhì)為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。

5.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟：

提供一基體；

在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為氮氧化錫層，形成所述色彩層采用磁控濺射法，以錫靶為靶材，以氧氣和氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，控制氧氣的流量為50～150sccm，氮?dú)獾牧髁繛?0～50sccm，濺射的溫度為50～100℃，濺射的時(shí)間為15～30min；所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L^*坐標(biāo)介于35至38之間，a^*坐標(biāo)介于3至4之間，b^*坐標(biāo)介于-10至-15之間。

6.如權(quán)利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于：形成該色彩層的工藝參數(shù)為：真空度為8×10^-5Pa，錫靶的功率為3～4kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為200～300sccm，施加于基體的偏壓為-100～-200V。

7.如權(quán)利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于：該基體的材質(zhì)為金屬、玻璃、陶瓷或塑料。

8.如權(quán)利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于：該色彩層的厚度為300～450nm。