[發(fā)明專利]一種用于細(xì)胞檢測的3D微流控結(jié)構(gòu)及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010557233.3
• 申請日: 2010-11-24
• 公開（公告）號: CN102128777A
• 公開（公告）日: 2011-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王永泉;陳花玲;王小鵬;王敬元;李義平;王冰
• 申請（專利權(quán)）人: 西安交通大學(xué)
• 主分類號: G01N15/14
• 分類號: G01N15/14
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 陸萬壽

1.一種用于細(xì)胞檢測的3D微流控結(jié)構(gòu)，其特征在于，該結(jié)構(gòu)為上行式微流控結(jié)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)由玻璃蓋片(1)和聚二甲基硅氧烷PDMS的流控結(jié)構(gòu)(2)和基底(3)封接而成，流控結(jié)構(gòu)(2)由鞘流入流通道(4)、樣液入流通道(5)、匯流腔(6)、匯聚通道(7)以及上行臺階(8)和出口(10)構(gòu)成，所述的鞘流入流通道(4)在樣液入流通道(5)左右兩側(cè)對稱排列，樣液入流通道(5)在中間，此三股通道與匯流腔(6)相通并具有相同的深度，匯流腔(6)通過上行臺階(8)與匯聚通道(7)相通，匯聚通道(7)的深度小于匯流腔(6)。

2.一種用于細(xì)胞檢測的3D微流控結(jié)構(gòu)，其特征在于，該結(jié)構(gòu)為下行式微流控結(jié)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)由玻璃蓋片(1)和聚二甲基硅氧烷PDMS的流控結(jié)構(gòu)(2)和基底(3)封接而成，流控結(jié)構(gòu)(2)由鞘流入流通道(4)、樣液入流孔(5)、匯流腔(6)、匯聚通道(7)以及下行臺階(9)和出口(10)構(gòu)成，所述的鞘流入流通道(4)為左右對稱排列，與匯流腔(6)相通并具有相同的深度，樣液入流孔(5)位于匯流腔(6)底部，匯流腔(6)通過下行臺階(9)與匯聚通道(7)相通，匯聚通道(7)的深度大于匯流腔(6)。

3.一種如權(quán)利要求1或2所述用于細(xì)胞檢測的3D微流控結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，采用兩次光刻，一次顯影的制備方法，即

(a)在硅片或玻璃基底(20)的一表面涂覆一層負(fù)型感光材料；

(b)提供第一塊掩模板(22)，該掩模板的曝光圖案為上述微結(jié)構(gòu)的二維圖案，利用紫外光光束(23)對負(fù)型感光材料進(jìn)行曝光；

(c)曝光后不顯影，緊接著再在第一層負(fù)型感光材料上涂覆第二層相同的負(fù)型感光材料；

(d)提供第二塊掩模板(25)，制作上行式結(jié)構(gòu)時，該第二塊掩模板的曝光圖案為鞘流、樣流入流通道及匯流腔的二維圖案，制作下行式結(jié)構(gòu)時該第二塊掩模板的曝光圖案為匯聚通道的二維圖案，與第一塊掩模板(22)對準(zhǔn)后利用紫外光光束(23)對負(fù)型感光材料進(jìn)行二次曝光；

(e)經(jīng)兩次曝光后，進(jìn)行顯影程序，得到所需陽模(26)；

(f)在此陽模上注塑聚二甲基硅氧烷PDMS材料(27)，固化后得到所需的3D微流控結(jié)構(gòu)(28)。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中該負(fù)型感光材料均為SU-8光刻膠。