[發明專利]高溫水蒸氣和水混合射流清洗系統及方法

無效

• 申請號: 201010555980.3
• 申請日: 2010-11-23
• 公開（公告）號: CN102476108A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 王磊;景玉鵬
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 北京市德權律師事務所 11302
• 代理人: 王建國

1.一種高溫水蒸氣和臭氧混合射流清洗系統，其特征在于，包括：

臭氧發生器、去離子水儲罐、用于對去離子水加熱并使其達到高溫狀態的控制裝置、兩個噴嘴及清洗腔室；所述去離子水儲罐的出口通過所述控制裝置與一噴嘴的入口連接；所述臭氧發生器的出口與所述另一噴嘴的入口連接；所述兩個噴嘴分別與所述清洗腔室兩個入口連接。

2.根據權利要求1所述的清洗系統，其特征在于，還包括：

去離子水輔助載流裝置，所述去離子水輔助載流裝置包括N₂氣瓶、過濾器；所述N₂氣瓶的出口通過所述過濾器與所述去離子水儲罐的入口連接。

3.根據權利要求1所述的清洗系統，其特征在于，所述控制裝置包括：

熱交換器及恒溫控制與顯示裝置；所述熱交換器的入口通過一流量計、一閥門與所述去離子水儲罐的出口連接；所述熱交換器的出口通過所述恒溫控制與顯示裝置及一閥門與所述兩個噴嘴的中的一個噴嘴連接。

4.根據權利要求1所述的清洗系統，其特征在于：

所述清洗腔室中的兩個所述噴嘴是兩個相向噴嘴；所述噴嘴能繞旋轉接頭的軸線360°旋轉，且所述噴嘴能拆卸更換。

5.根據權利要求4所述的清洗系統，其特征在于：

所述清洗腔室內設置有可以旋轉的用于固定樣片的托盤；所述托盤位于所述兩個相向噴嘴下。

6.根據權利要求3-5任一項所述的清洗系統，其特征在于：

還包括去離子水回收裝置，所述去離子水回收裝置包括氣液分離器、過濾器和冷循環裝置；所述氣液分離器的入口與所述清洗腔室的出口連接；所述氣液分離器的出口與通過所述過濾器、一單向閥所述熱交換器的入口連接；所述氣液分離器的出口與通過所述過濾器、一閥門所述熱交換器的入口連接；所述氣液分離器的出口還與一廢液罐的入口連接；所述冷循環裝置與所述氣液分離器連接。

7.根據權利要求6所述的清洗系統，其特征在于：

還包括臭氧處理裝置和尾氣處理裝置，所述臭氧處理裝置的入口與所述氣液分離器的出口連接；所述臭氧處理裝置的出口與所述尾氣處理裝置的入口連接。

8.根據權利要求1-5任一項所述的清洗系統，其特征在于：

所述處于高溫狀態的水蒸氣的溫度為200～500℃。

9.一種高溫水蒸氣和臭氧混合射流清洗方法，其特征在于，包括：

形成高溫狀態的水蒸氣；及

形成高溫水蒸氣和臭氧的混合流體；及

使用所述混合流體對樣片進行清洗處理。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，還包括：

對清洗處理后的所述混合流體中所含的去離子水進行回收；及

對清洗處理后的所述混合流體中的氣態物質進行臭氧處理再進行尾氣處理；所述處于高溫狀態的水蒸氣的溫度為200～500℃。