[發(fā)明專利]一種襯底出光SiC襯底垂直結(jié)構(gòu)發(fā)光管及制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010554940.7 | 申請日: | 2010-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN102064250A | 公開(公告)日: | 2011-05-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 杜國同;梁紅偉;李萬程 | 申請(專利權(quán))人: | 吉林大學 |
| 主分類號: | H01L33/02 | 分類號: | H01L33/02;H01L33/00 |
| 代理公司: | 長春吉大專利代理有限責任公司 22201 | 代理人: | 張景林;劉喜生 |
| 地址: | 130012 吉林*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 襯底 sic 垂直 結(jié)構(gòu) 發(fā)光 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導體發(fā)光器件及其制備技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及基于GaN基發(fā)光管及其制作方法。
背景技術(shù)
隨著第三代半導體材料氮化鎵的突破和藍、綠、白光發(fā)光二極管的問世,繼半導體技術(shù)引發(fā)微電子革命之后,又在孕育一場新的產(chǎn)業(yè)革命——照明革命,其標志是半導體燈將逐步替代白熾燈和熒光燈。由于半導體照明(亦稱固態(tài)照明)具有節(jié)能、長壽命、免維護、環(huán)保等優(yōu)點,業(yè)內(nèi)普遍認為,如同晶體管替代電子管一樣,半導體燈替代傳統(tǒng)的白熾燈和熒光燈,也是科學技術(shù)發(fā)展的必然和大勢所趨。目前用于半導體照明的發(fā)光管(LED)主要是GaN材料系,大多數(shù)的GaNLED是在Al2O3單晶襯底上外延生長多層GaN系材料薄膜制備的。但是由于Al2O3單晶不導電,所以這種LED只能作成同面電極結(jié)構(gòu),即正負電極都在外延層一面,電流是在n-GaN薄層中橫向流動的,電流密度大,會產(chǎn)生熱量,而Al2O3單晶襯底的導熱特性也不好,這樣這種同面電極Al2O3單晶襯底結(jié)構(gòu)LED很難獲得大功率輸出。于是人們提出制備垂直結(jié)構(gòu)LED。X.A.Cao等人在文獻“APPLIED?PHYSICS?LETTERS?VOLUME?85,NUMBER?18,2004,p3971”就報道了研制的一種垂直結(jié)構(gòu)發(fā)光管。這種器件如圖1所示,由n型GaN單晶襯底1,襯底1上外延生長的n型GaN緩沖層和下限制層2,下限制層2上制備的GaN材料系多量子阱發(fā)光層3,發(fā)光層3上制備的p型GaN上限制層4,上限制層4上面制備的InGaN蓋層5,蓋層5上面制備的上電極6,襯底1下面制備的下電極7等部件構(gòu)成。
由于目前制備的GaN單晶襯底價格昂貴,且沒有大批量產(chǎn)業(yè)化,造成制備的LED成本高。人們又把目光投向到單晶襯底制備技術(shù)比較成熟,已經(jīng)有大批量產(chǎn)業(yè)化產(chǎn)品的SiC單晶襯底上,制備了一些SiC襯底發(fā)光管。
SiC襯底價格適中,同時SiC晶格和GaN匹配較好,且單晶襯底導電和導熱性能都比較好。可是,由于SiC材料折射率較大,有源區(qū)發(fā)出的光大部分被襯底吸收,因而出光率低。
為了克服上述GaN基發(fā)光管產(chǎn)業(yè)化制備的這一困難,本發(fā)明提出一種新型襯底出光SiC襯底垂直結(jié)構(gòu)發(fā)光管及制備方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是為解決上述GaN基發(fā)光管的這一問題,利用SiC襯底晶格和GaN匹配較好,導電和導熱性能都比較好,且制備技術(shù)比較成熟,已經(jīng)有大批量產(chǎn)業(yè)化的產(chǎn)品,同時價格適中的優(yōu)點,提供一種新型襯底出光SiC襯底垂直結(jié)構(gòu)發(fā)光管及其制備方法。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:
本發(fā)明所設計的一種新型襯底出光SiC襯底垂直結(jié)構(gòu)發(fā)光管(見附圖2和附圖說明),依次由襯底1、襯底1上外延生長的n型GaN緩沖層和下限制層2、下限制層2上制備的GaN材料系多量子阱發(fā)光層3、發(fā)光層3上制備的p型GaN上限制層4、上限制層4上面制備的p型InxGa1-xN蓋層5、蓋層5上面制備的上電極6,襯底1下面制備的下電極7構(gòu)成,其特征在于:上電極6制備成兼有反射鏡功能,同時為了彌補光在金屬反射鏡反射時的位相損失,在蓋層5和上電極6之間生長一層p型InyGa1-yN位相匹配層8,上電極6全部覆蓋在位相匹配層8的上面,襯底1是n型SiC單晶襯底,為了減緩SiC材料折射率較大影響出光率,在襯底1的襯底面80~95%的面積上制備一層ZnO薄膜9,而在襯底1的襯底面其余的5~20%面積上制備下電極7。
該種發(fā)光管為倒裝(即外延層面向下,裝配焊接在支架或熱沉上),襯底出光結(jié)構(gòu),出光方向如箭頭12所示。
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