[發明專利]氣管內套管氣囊填充的調節有效
| 申請號: | 201010552126.1 | 申請日: | 2006-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN102038992A | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發明(設計)人: | S·埃弗拉蒂;I·多伊奇 | 申請(專利權)人: | 呼吸醫療技術有限公司 |
| 主分類號: | A61M16/04 | 分類號: | A61M16/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 梁謀;劉健 |
| 地址: | 以色列里*** | 國省代碼: | 以色列;IL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣管 套管 氣囊 填充 調節 | ||
本申請是2006年8月21日申請的中國國家申請號為200680039482.5,國際申請號為PCT/IL2006/000974,發明名稱為“氣管內套管氣囊填充的調節”的發明申請的分案申請。
發明領域和背景技術
本發明涉及插管法,特別涉及用于實現氣管內插管(endotrachealintubation)和調節氣管內套管氣囊填充(endotracheal?tube?cuff?filling)的系統和方法。
在對需要呼吸幫助的患者的醫學治療中,通過口、鼻或任何其它通過手術形成的開口將氣管內套管插入患者的氣管內是很常見的。氣管內套管的一段連接著呼氣機,其周期性地迫使空氣通過所述套管進入肺部。所述套管的內端通常具有可充氣的氣囊,其在該套管插入氣管之后通過常規的手段充氣。充氣后的氣囊理應提供對氣管內壁的密封。
在這種氣囊式氣管內套管中,如果在過高的壓力下使得所述氣囊與氣管內壁相接觸,由于接觸部位毛細血管受到過度的壓力從而干擾了粘膜中正常的血流,造成組織局部缺血或者血流不足。長時間的局部缺血會引起不同程度的損傷,如粘膜糜爛、氣管軟骨環破壞、或氣管擴張性的分節氣管軟化(segmental?tracheomalacia)。甚至更夸張的是會發生全層糜爛,其會引起早期無名動脈穿孔或者晚期食道穿孔。需要長期呼吸幫助的患者通常發展成氣管狹窄的后發癥,從輕度到失能性的阻塞。
另一方面,如果在過低的壓力下使氣囊與氣管內壁相接觸,由于麻醉氣體、氧氣或空氣的泄漏,會抑制人工呼吸。而且,當壓力低時,機體分泌物、粘液或其它不需要的流體會逐漸通過氣管內表面與氣囊外表面之間。這些分泌物會通過氣管并進入支氣管,從而可能引起肺部感染。
因而需要使氣管內壁上的氣囊接觸壓力保持在適當的水平,以防止機械通氣過程中空氣從充氣氣囊和氣管壁之間泄漏,同時在接觸部位處保持毛細血管中必需的血流。
為了防止氣囊長時壓力引起的組織損傷,醫師會使氣囊周期性地放氣和再次充氣。然而,該程序很少能足夠頻繁地進行或者進行足夠長的時間以使組織得到足夠的再灌注。因而,該程序不能可靠地防止氣管壁局部缺血。
已經開發出各種各樣的氣管內套管。例如,美國專利No.4159722公開了一種用于氣管內套管上可充氣氣囊的改良壓力調節器,其防止相對迅速的壓力增加并允許相對緩慢的壓力增加。該壓力調節器提供了氣囊中氣壓的可視性指示。
美國專利No.4305392試圖通過抽吸來解決分泌物泄漏的問題。該氣管內套管與腔室形式的抽吸設備結合,所述設備帶有用于抽吸出氣囊上方氣管內的流體并將有藥力的流體引入氣管的抽吸部分。
美國專利No.4501273試圖通過控制氣囊來解決所述泄漏問題。氣囊內的壓力自動增加,與注入氣管內套管內部的壓力增加呈正比,從而防止了已充氣的氣囊和氣管壁之間的密封受損壞或泄漏。
美國專利No.5765559致力于解決氣管壁上氣囊施加的恒定靜壓力的問題,所述問題在長時間的手術過程中可能導致氣管狹窄。所提出的方案包括氣囊式氣管內套管,其具有多個氣囊環,每個都能夠周期性地充氣和放氣,這樣當一個或多個氣囊環放氣時其它的環保持無氣狀態。這減少了由于固定部位上恒定壓力造成的對氣管壁的傷害。
然而,以上的以及其它的現有技術均沒有監測氣囊和氣管內壁之間的接觸區域處的泄漏。
公開號為WO?2002/076279的國際專利申請和美國專利No.6843250中公開了不同的方式,其均由本發明的發明者所提交。在該方法中,監測了氣囊和聲帶之間患者的呼吸道內的二氧化碳的濃度。根據所述監測,可調節對氣囊的充氣以防止二氧化碳泄漏通過氣囊。可調節對氣囊的充氣以提供最小的充氣壓力,從而防止二氧化碳泄漏通過氣囊。
其它的相關現有技術包括美國專利No.3504676,3794036,4305392,4770170,4825862,5067497,5579762,5582166,5582167,5752921,5819723,5937861和6062223。
本發明提供了與現有技術的氣管內插管技術相關問題的解決方案。
發明內容
背景技術中沒有教導對氣管內套管氣囊填充的優化,即通過測量指示分泌物通過氣囊泄漏到肺部的度量值并將該指示性度量值與所述度量值的最佳水平相比較。背景技術既沒有教導二氧化碳濃度的最佳值,也沒有教導任何除二氧化碳濃度之外的度量值。而且,背景技術沒有教導為了氣囊調節的目的使用添加劑來識別氣囊附近泄漏管道的形成。
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