[發(fā)明專利]一種線寬均勻性的測試方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010545771.0 | 申請日： | 2010-11-16 |
| 公開（公告）號： | CN102466982A | 公開（公告）日： | 2012-05-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 黃瑋;段天利;鄒永祥;胡駿;張辰明;劉志成 | 申請（專利權）人： | 無錫華潤上華半導體有限公司;無錫華潤上華科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 214028 江蘇省無*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 均勻 測試 方法 | ||
1.一種線寬均勻性的測試方法，包括以下步驟：
在光刻版上形成線寬設計值為目標值A1、A2、......、Ak的k個線寬測試圖形，所述k為自然數(shù)，同時形成至少k個修正圖形，每一個所述線寬測試圖形至少有一個相對應的所述修正圖形，所述修正圖形的線寬設計值大于或小于相對應的所述線寬測試圖形的目標值；
從所述線寬測試圖形和所述修正圖形中挑選出線寬實際值與目標值最接近的圖形作為對應圖形；
使用光刻機將所述對應圖形光刻到圓片上；
測試圓片上的所述對應圖形的線寬，作為評價線寬均勻性的數(shù)據(jù)。
2.根據(jù)權利要求1所述的線寬均勻性的測試方法，其特征在于，所述從所述線寬測試圖形和所述修正圖形中挑選出線寬實際值與目標值最接近的圖形作為對應圖形的步驟具體是：
遍測所述k個線寬測試圖形和所述至少k個修正圖形在光刻版上的線寬實際值；
在每一個線寬測試圖形以及與所述每一個線寬測試圖形相對應的修正圖形中，挑選出線寬實際值與目標值最接近的圖形，作為對應圖形。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的線寬均勻性的測試方法，其特征在于，所述線寬測試圖形的每一個有兩個以上相對應的所述修正圖形，且所述修正圖形的線寬設計值為其對應的線寬測試圖形的目標值加或減第一預設值的i倍，所述i為自然數(shù)。
4.根據(jù)權利要求3所述的線寬均勻性的測試方法，其特征在于，所述第一預設值大于光刻版制版時的步進精度。
5.根據(jù)權利要求4所述的線寬均勻性的測試方法，其特征在于，所述第一預設值為1至10納米。
6.根據(jù)權利要求3所述的線寬均勻性的測試方法，其特征在于，每一線寬測試圖形以及每一修正圖形均包括兩個線寬圖形，所述兩個線寬圖形互為反型圖形。
7.根據(jù)權利要求3所述的線寬均勻性的測試方法，其特征在于，所述線寬測試圖形以及修正圖形均包括x方向圖形和y方向圖形，所述x方向圖形和y方向圖形相互垂直。
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