[發明專利]足用按摩機無效
| 申請號: | 201010544601.0 | 申請日: | 2010-11-11 |
| 公開(公告)號: | CN102106780A | 公開(公告)日: | 2011-06-29 |
| 發明(設計)人: | 岡田則幸;曾根也寸志 | 申請(專利權)人: | 三洋電機株式會社;三洋電機民用電子株式會社 |
| 主分類號: | A61H39/04 | 分類號: | A61H39/04;A61H7/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 李貴亮 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 按摩 | ||
技術領域
本發明涉及一種能夠對被施療者的足體(足先)進行按摩的足用按摩機,更具體而言,涉及一種能夠利用多個足底用按摩機構同時對被施療者的足底實施按摩的足用按摩機。
背景技術
提出有對被施療者的足體(被施療者的腳踝骨靠下側)實施按摩的足用按摩機(例如參照專利文獻1)。
專利文獻1中的足用按摩機具有供被施療者的足體插入的左右一對的凹部,并且在各凹部的側部內壁分別配置有對被施療者的足體的側部進行按摩的按摩板,在凹部的底面配置有能夠擺動的足底板(足裏プレ一ト)。
按摩板以長度方向彼此反向傾斜的狀態安裝于配置在凹部下方的沿左右方向延伸的旋轉軸,通過旋轉軸旋轉使左右一對的按摩板對稱地擺動,從而二者接近、分離,通過按摩板從兩側夾入被施療者的足體來對足體進行按壓按摩。
另外,足底板的一端側的里面通過彈簧支承為能夠上下運動,偏心的輥與足底板的另一端側的里面抵接,通過利用偏心支承該輥的旋轉軸使該輥旋轉,使足底板傾斜動作,從而按壓按摩被施療者的足底。
專利文獻1:日本特開2003-665號公報
在上述的足用按摩機中,對于足底例如只能對腳心的一個部位實施按摩,從而容易導致按摩單調而不能令人滿意。
發明內容
本發明的目的在于提供一種能夠對足底的多個部位同時實施按摩的足用按摩機。
為了解決所述問題,本發明的足用按摩機具備:
驅動機構,其能夠通過控制機構控制旋轉及停止;
旋轉軸,其通過驅動機構能夠旋轉;
足底用按摩機構,其為存在規定間隔地配置在該旋轉軸上的左右的足底用按摩機構,該左右的足底用按摩機構具有對被施療者的腳心進行按摩的第一足底用按摩機構和對被施療者的足底的腳尖側進行按摩的第二足底用按摩機構,其中,
第一足底用按摩機構及第二足底用按摩機構分別隨著旋轉軸的旋轉,分別對腳心及足底的腳尖側實施按壓按摩。
發明效果
通過對被施療者的足底同時施加由第一足底用按摩機構和第二足底用按摩機構進行的按壓按摩,能夠施加富有變化的高效的足底按摩。
附圖說明
圖1是本發明的足用按摩機的立體圖。
圖2是拆下上罩后的足用按摩機的立體圖。
圖3是表示被施療者的足體插入圖2的足用按摩機后的狀態的立體圖。
圖4是表示拆下上罩后的足用按摩機的俯視圖。
圖5是圖4的沿著線A-A的剖視圖。
圖6是示意性表示按摩板的運動的說明圖。
圖7是表示足底用按摩機構的運動的剖視圖。
圖8是表示足底用按摩機構的運動的剖視圖。
圖9是表示使足體向前方移動來接受由足底用按摩機構進行的按摩的狀態的剖視圖。
圖10是表示使足體向前方移動來接受足底用按摩機構進行的按摩的狀態的剖視圖。
圖11是在包括圖1的C-C線的垂直面內剖開而沿箭頭方向觀察到的放大剖視圖。
符號說明:
10????足用按摩機
40????驅動機構
44????旋轉軸
50????足體用按摩機構
51????內側按摩板
54????內側傾斜軸部
57????限動件
61????外側按摩板
64????外側傾斜軸部
67????限動件
70????足底用按摩機構
71????第一足底用按摩機構
72????圓板體
73????指壓輥
81????第二足底用按摩機構
82????偏心軸
83????按摩曲軸
84????按摩輥
85????連接片
具體實施方式
圖1是本發明的足用按摩機10的立體圖。如圖所示,足用按摩機10具有殼體12,該殼體12包括形成供被施療者的足體插入的左右一對的凹部21、21的開口緣22、22的上罩20和與該上罩20上下成對且載置在地面上的下罩30。
凹部21、21的腳尖側及上側開口,在開口緣22、22施加有具有伸縮性的布罩23、23。
在上罩20上配置有用于在凹部21、21間進行操作的操作部24。
另外,在上罩20的開口緣22、22的前端設置有多個指壓突起25、25,通過使被施療者的足底前后運動,該指壓突起25、25對被施療者提供指壓效果。
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