[發明專利]一種石墨單層片溶液及其制備方法無效
| 申請號： | 201010542472.1 | 申請日： | 2010-11-11 |
| 公開（公告）號： | CN102464314A | 公開（公告）日： | 2012-05-23 |
| 發明（設計）人： | 韓寶航;周鼎;承倩怡 | 申請（專利權）人： | 國家納米科學中心 |
| 主分類號： | C01B31/04 | 分類號： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 北京潤平知識產權代理有限公司 11283 | 代理人： | 陳小蓮;王鳳桐 |
| 地址： | 100190 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 石墨 單層 溶液 及其 制備 方法 | ||
1.一種石墨單層片溶液，其特征在于，所述石墨單層片溶液含有有機溶劑和石墨單層片，所述有機溶劑為酰胺溶劑和/或烷酮溶劑，所述石墨單層片溶液中石墨單層片的濃度為0.06-0.6mg/mL。
2.根據權利要求1所述的溶液，其中，所述石墨單層片溶液中石墨單層片的濃度為0.28-0.6mg/mL。
3.根據權利要求1或2所述的溶液，其中，所述有機溶劑為N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二乙基甲酰胺、N，N-二乙基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮和N-乙烯基吡咯烷酮中的一種或多種。
4.根據權利要求3所述的溶液，其中，所述有機溶劑為N，N-二甲基甲酰胺和/或N-甲基吡咯烷酮。
5.根據權利要求1或2所述的溶液，其中，所述石墨單層片的碳原子數與氧原子數的比值為4-8。
6.一種制備石墨單層片溶液的方法，該方法包括，在密閉條件下，將濃度為0.1-1mg/mL的石墨單層片氧化物有機溶液在90-200℃下加熱2-12小時，進行熱處理；其特征在于，所述石墨單層片氧化物有機溶液中的有機溶劑為酰胺和/或烷酮。
7.根據權利要求6所述的方法，其中，所述石墨單層片氧化物有機溶液的濃度為0.45-1mg/mL。
8.根據權利要求6或7所述的方法，其中，所述酰胺溶劑為N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二乙基甲酰胺、N，N-二乙基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮和N-乙烯基吡咯烷酮中的一種或多種。
9.根據權利要求8所述的方法，其中，所述有機溶劑為N，N-二甲基甲酰胺和/或N-甲基吡咯烷酮溶液。
10.根據權利要求6所述的方法，其中，所述熱處理的溫度100-180℃，時間為2-10小時。
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