[發明專利]一種氧肟酸型高分子螯合劑的離子靜態去除率測定方法無效
| 申請號： | 201010542117.4 | 申請日： | 2010-11-01 |
| 公開（公告）號： | CN102466637A | 公開（公告）日： | 2012-05-23 |
| 發明（設計）人： | 袁俊海 | 申請（專利權）人： | 袁俊海 |
| 主分類號： | G01N21/75 | 分類號： | G01N21/75;G01N21/31;G01J3/42 |
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| 地址： | 610000 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氧肟酸型 高分子 螯合劑 離子 靜態 去除 測定 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種氧肟酸型高分子螯合劑的離子靜態去除率測定方法，其特征在于，包括以下步驟：
(a)取氧肟酸型高分子螯合劑置于反應容器中；
(b)加入濃度為C的金屬離子溶液；
(c)攪拌一段時間，取上層澄清溶液；
(d)測定其經處理后的金屬離子濃度C1；
(e)根據C和C1計算出離子靜態去除率Q。
2.根據權利要求1所述的一種氧肟酸型高分子螯合劑的離子靜態去除率測定方法，其特征在于，所述步驟(a)中，反應容器為燒杯。
3.根據權利要求1所述的一種氧肟酸型高分子螯合劑的離子靜態去除率測定方法，其特征在于，所述步驟(b)中，加入的金屬離子溶液體積為100ml。
4.根據權利要求1所述的一種氧肟酸型高分子螯合劑的離子靜態去除率測定方法，其特征在于，所述步驟(c)中，攪拌溫度為室溫。
5.根據權利要求1所述的一種氧肟酸型高分子螯合劑的離子靜態去除率測定方法，其特征在于，所述步驟(d)中，通過分光光度計測量金屬離子濃度。
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