[發明專利]紅外、雷達新型一體化隱身織物及其制備方法

有效

• 申請號: 201010541664.0
• 申請日: 2010-11-12
• 公開（公告）號: CN101995187A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: 張增強;黃馬壯
• 申請（專利權）人: 五邑大學
• 主分類號: F41H1/02
• 分類號: F41H1/02;B32B5/18;B32B27/40
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 李柏林

技術領域

本發明涉及一種織物結構及其制備方法，特別是一種紅外、雷達新型一體化隱身織物及其制備方法。

背景技術

隨著現代軍事探測技術和制導技術的發展，未來戰場上的各種軍事目標面臨著嚴峻的威脅。目前雷達在各種探測器中仍占主導地位,而紅外技術在偵察、捕獲目標和制導技術方面也已得到廣泛的應用。各種地面軍事目標如：坦克、車輛、飛機、導彈等武器裝備和重要的指揮工程、發射陣地、后方倉庫等軍事戰場生存能力受到嚴重威脅，極不利于戰爭的勝利。通過應用隱身材料，能減少軍事目標的光、磁等特征信號，降低可觀測性和被制導武器命中的概率，從而提高軍事目標的戰場生存能力和突防能力，增強其作戰效能。為此，各國利用現代工藝，制作了一系列的防雷達波、防紅外線的隱身材料，但目前來說，這些材料在質量、吸收效果以及機械強度等方面都不能令人完全滿意，并且一般地這些材料都只具有單一的隱身功能，即只能單單實現防雷達波或者單單實現防紅外線功能，并不能滿足實際要求，并且這些材料在制作時還存在工藝復雜的缺點。

發明內容

為克服上述問題，本發明提供一種能夠同時實現紅外、雷達隱身功能的一體化隱身織物以及其簡單、易于實現的制備方法，這種織物具有輕質、吸收效果好、機械強度高的優點。

根據本發明目的的一個方面，提供一種紅外、雷達新型一體化隱身織物，從外向內依次包括紅外迷彩面層以及抗靜電底層，所述紅外迷彩面層從外向內依次包括紅外隱身層、織物層以及雷達波吸收衰減層，所述紅外隱身層由利用紅外隱身涂料所涂成的涂層以及設置于涂層表面的磁控濺射ITO薄膜復合而成，所述雷達波吸收衰減層包括海綿體，海綿體上吸附有吸波材料。

進一步，該織物還包括設置于其中兩層之間的阻燃層。

所述紅外隱身涂料由粘結劑成膜物、反射填料以及溶劑組成。

所述反射填料由ITO、鋁粉、氧化鋅組成。

所述粘結劑成膜物為丙烯酸改性醇酸樹脂。

所述溶劑由二甲苯和正丁醇混合而成。

所述吸波材料包括納米石墨粉、鐵氧體磁粉以及多晶鐵纖維。

所述海綿體上還吸附有阻燃材料。

所述海綿體為聚氨酯海綿體。

根據本發明目的的另一個方面，提供紅外、雷達新型一體化隱身織物的制備方法，包括以下步驟：

（1）配備紅外隱身材料，將紅外隱身材料涂覆在織物層表面，烘干，形成涂層；

（2）利用磁控濺射鍍膜的方法在涂層的表面鍍ITO薄膜，ITO薄膜與涂層復合形成紅外隱身層；

（3）制備一包括吸附有吸波材料的海綿體的雷達波吸收衰減層；

（4）制備一抗靜電底層；

（5）將帶有紅外隱身層的織物層、雷達波吸收衰減層以及抗靜電底層從外向內依次縫合。

本發明的有益效果是：本發明的雷達波吸收衰減層中的海綿體由無數個蜂窩狀的空心體組成，這種空心體結構配合其上面所吸附的吸波材料并與紅外隱身層的ITO薄膜相結合可以有效地吸收衰減不同方向所發射過來的不同頻率的雷達波，實現雷達隱身功能，且它們可以有效的隔絕內部熱量，降低紅外發射率，將目標的熱輻射進行有效的屏蔽，從而實現紅外隱身功能，另外，雷達波吸收衰減層的海綿體結構也可以克服涂層吸波時會出現的涂層龜裂和脫落現象，確保整體吸波效果良好，減小材料的面密度，確保織物的質量控制在極小的范圍內，實驗表明，這種織物在斷裂強力以及頂破強度等方面都具有極佳的表現效果；此外，從本發明的制備過程也可以看出，本發明的隱身織物在制作時并沒有過多的復雜工藝，可以利用常見的織物生產方法實現，因此其具有生產方便、易于實現的優點。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本發明作進一步說明：

圖1為本發明一種實施例結構示意圖；

圖2為本發明的紅外隱身涂料的制備流程圖；

圖3為本發明的雷達波吸收衰減層的制備流程圖。

具體實施方式

參照圖1，本發明的紅外、雷達新型一體化隱身織物，從外向內依次包括紅外迷彩面層以及抗靜電底層1，所述紅外迷彩面層從外向內依次包括紅外隱身層、織物層2以及雷達波吸收衰減層3，所述紅外隱身層由利用紅外隱身涂料所涂成的涂層4以及設置于涂層表面的磁控濺射ITO薄膜5復合而成，所述雷達波吸收衰減層3包括海綿體，一般有聚氨酯海綿體，海綿體上吸附有吸波材料。

紅外、雷達新型一體化隱身織物的制備方法，包括以下步驟：

（1）配備紅外隱身材料，將紅外隱身材料涂覆在織物層表面，烘干，形成涂層；

（2）利用磁控濺射鍍膜的方法在涂層的表面鍍ITO薄膜，ITO薄膜與涂層復合形成紅外隱身層；