[發(fā)明專利]擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)、透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)及其制作方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010540998.6
• 申請(qǐng)日: 2010-11-09
• 公開（公告）號(hào): CN102467277A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱兆杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 智盛全球股份有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041;B32B9/04;B32B27/00
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;張燕華

1.一種擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

一第一氧化單元，其具有多個(gè)第一氧化層，其中每一個(gè)第一氧化層為一氧化硅層；以及

一第二氧化單元，其具有多個(gè)第二氧化層，其中每一個(gè)第二氧化層為一氧化鋁層或一氧化鋰層，且上述多個(gè)第一氧化層與上述多個(gè)第二氧化層彼此交替堆棧在一起。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)，其特征在于，該擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)的厚度介于1μm至3μm之間，每一個(gè)氧化硅層為二氧化硅，且每一個(gè)第二氧化層的厚度介于至之間。

3.一種透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

一基板單元，其具有至少一塑料基板；

一第一涂層單元，其具有至少一成形于上述至少一塑料基板上的第一涂層；

一擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)，其成形于上述至少一第一涂層上，其中該擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)具有一第一氧化單元及一第二氧化單元，該第一氧化單元具有多個(gè)第一氧化層，該第二氧化單元具有多個(gè)第二氧化層，每一個(gè)第一氧化層為一氧化硅層，每一個(gè)第二氧化層為一氧化鋁層或一氧化鋰層，且上述多個(gè)第一氧化層與上述多個(gè)第二氧化層彼此交替堆棧在一起；

一第二涂層單元，其具有至少一成形于該擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)上的第二涂層；

一第三涂層單元，其具有至少一成形于上述至少一第二涂層上的第三涂層；以及

一導(dǎo)電單元，其具有至少一成形于上述至少一第三涂層上的透明導(dǎo)電薄膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，其特征在于，上述至少一塑料基板為聚乙烯對(duì)苯二甲酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚氯乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、及聚甲基丙烯酸甲酯的其中之一。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，其特征在于，上述至少一第一涂層為一紫外光硬化涂層，每一個(gè)氧化硅層為二氧化硅，上述至少一第二涂層為二氧化鈦或五氧化二鈮，上述至少一第三涂層為二氧化硅，且上述至少一透明導(dǎo)電薄膜為一銦錫氧化物，其中上述至少一第一涂層的厚度介于6μm至10μm之間，該擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)的厚度介于1μm至3μm之間，每一個(gè)第二氧化層的厚度介于至之間，上述至少一第二涂層的厚度介于至之間，上述至少一第三涂層的厚度介于至之間，且上述至少一透明導(dǎo)電薄膜的厚度介于至之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，其特征在于，該導(dǎo)電單元還進(jìn)一步具有至少一與上述至少一透明導(dǎo)電薄膜同時(shí)成形的納米導(dǎo)電群組，其中上述至少一透明導(dǎo)電薄膜成形于上述至少一塑料基板上，且上述至少一納米導(dǎo)電群組為多個(gè)混入或嵌入上述至少一透明導(dǎo)電薄膜內(nèi)的納米導(dǎo)電線絲。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，其特征在于，每一個(gè)納米導(dǎo)電線絲為一納米金絲、納米銀絲或納米銅絲，每一個(gè)納米導(dǎo)電線絲的線徑介于1nm至10nm之間，且上述至少一透明導(dǎo)電薄膜及上述至少一納米導(dǎo)電群組分別通過(guò)濺鍍及蒸鍍的方式同時(shí)成形。

8.一種透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，包括下列步驟：

提供一基板單元，其具有至少一塑料基板；

將至少一第一涂層成形于上述至少一塑料基板上；

將一擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)成形于上述至少一第一涂層上，其中該擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)具有一第一氧化單元及一第二氧化單元，該第一氧化單元具有多個(gè)第一氧化層，該第二氧化單元具有多個(gè)第二氧化層，每一個(gè)第一氧化層為一氧化硅層，每一個(gè)第二氧化層為一氧化鋁層或一氧化鋰層，且上述多個(gè)第一氧化層與上述多個(gè)第二氧化層彼此交替堆棧在一起；

將至少一第二涂層成形于該擴(kuò)散阻礙結(jié)構(gòu)上；

將至少一第三涂層成形于上述至少一第二涂層上；以及

將至少一透明導(dǎo)電薄膜成形于上述至少一第三涂層上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，該導(dǎo)電單元還進(jìn)一步具有至少一與上述至少一透明導(dǎo)電薄膜同時(shí)成形的納米導(dǎo)電群組，其中上述至少一透明導(dǎo)電薄膜成形于上述至少一塑料基板上，且上述至少一納米導(dǎo)電群組為多個(gè)混入或嵌入上述至少一透明導(dǎo)電薄膜內(nèi)的納米導(dǎo)電線絲。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，每一個(gè)納米導(dǎo)電線絲為一納米金絲、納米銀絲或納米銅絲，每一個(gè)納米導(dǎo)電線絲的線徑介于1nm至10nm之間，且上述至少一透明導(dǎo)電薄膜及上述至少一納米導(dǎo)電群組分別通過(guò)濺鍍及蒸鍍的方式同時(shí)成形。