[發(fā)明專利]基于硫醇-烯的連續(xù)浮雕微光學(xué)元件高精度紫外壓印方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010533159.1
• 申請(qǐng)日: 2010-11-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102053489A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金鵬;劉楠;王冠雄;譚久彬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 哈爾濱工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00;G03F7/027;B81C1/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種基于硫醇-烯的連續(xù)浮雕微光學(xué)元件高精度紫外壓印方法，在傳統(tǒng)連續(xù)浮雕結(jié)構(gòu)微光學(xué)元件紫外壓印工藝中，使用硫醇-烯類紫外光引發(fā)高分子材料作為抗蝕劑使用，其特征在于通過(guò)調(diào)節(jié)壓印壓力、控制殘膠層厚度的方法使抗蝕劑固化產(chǎn)生的收縮應(yīng)力通過(guò)流體流動(dòng)的方式得以弛豫，使連續(xù)浮雕結(jié)構(gòu)微光學(xué)元件的收縮誤差降低至3％以下，殘膠層厚度為500-1000nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于硫醇-烯的連續(xù)浮雕微光學(xué)元件高精度紫外壓印方法，其特征在于所用的硫醇-烯類紫外光引發(fā)高分子材料具有小于15％的體積收縮率。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于硫醇-烯的連續(xù)浮雕微光學(xué)元件高精度紫外壓印方法，其特征在于所用硫醇-烯類紫外光引發(fā)高分子材料可用于混合氣體的反應(yīng)離子刻蝕工藝，實(shí)現(xiàn)連續(xù)浮雕結(jié)構(gòu)的圖形傳遞。