[發(fā)明專利]射頻噪聲去嵌入方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010533065.4 | 申請(qǐng)日: | 2010-11-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102466773A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-05-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃景豐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01R31/26 | 分類號(hào): | G01R31/26;H01L23/544 |
| 代理公司: | 上海浦一知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁紀(jì)鐵 |
| 地址: | 201206 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射頻 噪聲 嵌入 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成電路制造領(lǐng)域,特別是涉及一種射頻噪聲去嵌入方法。
背景技術(shù)
對(duì)于RF噪聲測(cè)試,測(cè)試結(jié)構(gòu)中的壓焊塊(Pad)及連線的寄生電阻、電容、電感會(huì)對(duì)測(cè)試結(jié)果造成比較大的影響。為了得到精確的被測(cè)試器件結(jié)構(gòu)(Device?Under?Test,DUT)的噪聲參數(shù),需要將這些寄生效應(yīng)去除,即需要去嵌入(De-embedding)。現(xiàn)有技術(shù)中應(yīng)用最多的是如文獻(xiàn)《C.H.CHEN?and?M.J.DEEN,”High?frequency?Noise?of?Mosfets?I?Modeling“.Solid-state?Electronics?Vol.42,No.11,pp.2069-2081,1998》中所述的開(kāi)路去嵌入(Open?de-embedding)方法;及如文獻(xiàn)《K.Aufinger?andJ.Bock,”A?Straightforward?Noise?De-embedding?Method?and?ItsApplication?to?High-Speed?Silicon?Bipolar?Transistors”,Proceedings?ofESSDERC’96,pp.957-960》中所述的開(kāi)路-短路去嵌入(Open-Shortde-embedding方法。其中所述開(kāi)路去嵌入方法只能去除Pad寄生電容,所述開(kāi)路-短路去嵌入方法相對(duì)于開(kāi)路去嵌入方法有所提高,不但能去除Pad寄生電容,還能去除金屬連線的寄生電阻及電感,但是卻忽略了寄生電容效應(yīng)對(duì)噪聲的影響,隨著器件尺寸的不斷縮小及應(yīng)用頻率的不斷提高,金屬連線的寄生電容的效應(yīng)會(huì)顯得非常重要,為去除這一效應(yīng),可使用如文獻(xiàn)《C.H.CHEN?and?M.J.DEEN,”A?General?Procedure?for?High-Frequency?NoiseParameter?De-embedding?of?MOSFETs?by?Taking?the?Capacitive?Effects?of?MetalInterconnection?into?Account”,IEEE,Conference?on?Microelectronic?TestStructures,Vol?14,March?2001》所述的開(kāi)路-直通去嵌入(Open-Thrude-embedding)方法。
如圖1所示,為現(xiàn)有開(kāi)路-直通去嵌入方法的去嵌結(jié)構(gòu)示意圖,包括一被測(cè)試器件結(jié)構(gòu)1、一開(kāi)路去嵌測(cè)試結(jié)構(gòu)2、第一直通去嵌測(cè)試結(jié)構(gòu)3A和第二直通去嵌測(cè)試結(jié)構(gòu)3B。所述被測(cè)試器件結(jié)構(gòu)1包括一射頻器件11、一信號(hào)輸入壓焊塊S1、一信號(hào)輸出壓焊塊S2、四個(gè)接地壓焊塊G1、G2、G3、G4。所述信號(hào)輸入壓焊塊S1和所述射頻器件11的輸入端通過(guò)金屬線一12相連,所述信號(hào)輸出壓焊塊S2和所述射頻器件的輸出端通過(guò)金屬線二13相連,四個(gè)所述接地壓焊塊通過(guò)金屬線三14互相連接并和所述射頻器件的接地端連接;所述信號(hào)輸入壓焊塊S1、所述信號(hào)輸出壓焊塊S2排列在直線一上,直線二和直線三對(duì)稱的位于所述直線一的兩側(cè)且都和所述直線一平行,在所述直線二和所述直線三上各排列兩個(gè)所述接地壓焊塊,所述直線二上兩個(gè)所述接地壓焊塊G1、G2分別和所述信號(hào)輸入壓焊塊S1、所述信號(hào)輸出壓焊塊S2在垂直所述直線一的方向上對(duì)齊排列、所述直線三上兩個(gè)所述接地壓焊塊G1、G2分別和所述信號(hào)輸入壓焊塊S1、所述信號(hào)輸出壓焊塊S2在垂直所述直線一的方向上對(duì)齊排列。
所述開(kāi)路去嵌測(cè)試結(jié)構(gòu)2是在所述被測(cè)試器件結(jié)構(gòu)1的基礎(chǔ)上去除了所述射頻器件11、所述金屬線一12以及所述金屬線二13。
所述第一直通去嵌測(cè)試結(jié)構(gòu)3A是在所述被測(cè)試器件結(jié)構(gòu)1的基礎(chǔ)上去除了所述射頻器件11,且所述信號(hào)輸入壓焊塊S1和所述信號(hào)輸出壓焊塊S2之間通過(guò)金屬線12a相連,所述金屬線12a和所述金屬線一12的長(zhǎng)度和寬度都相同。所述接地壓焊塊G1、G2通過(guò)金屬線相連、所述接地壓焊塊G3、G4通過(guò)金屬線相連、所述直線二上的所述接地壓焊塊G1、G2和所述直線三上的所述接地壓焊塊G3、G4不連接。
所述第二直通去嵌測(cè)試結(jié)構(gòu)3B是在所述被測(cè)試器件結(jié)構(gòu)1的基礎(chǔ)上去除了所述射頻器件11,且所述信號(hào)輸入壓焊塊S1和所述信號(hào)輸出壓焊塊S2之間通過(guò)金屬線13a相連,所述金屬線13a和所述金屬線二13的長(zhǎng)度和寬度都相同。所述接地壓焊塊G1、G2通過(guò)金屬線相連、所述接地壓焊塊G3、G4通過(guò)金屬線相連、所述直線二上的所述接地壓焊塊G1、G2和所述直線三上的所述接地壓焊塊G3、G4不連接。
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G01R 測(cè)量電變量;測(cè)量磁變量
G01R31-00 電性能的測(cè)試裝置;電故障的探測(cè)裝置;以所進(jìn)行的測(cè)試在其他位置未提供為特征的電測(cè)試裝置
G01R31-01 .對(duì)相似的物品依次進(jìn)行測(cè)試,例如在成批生產(chǎn)中的“過(guò)端—不過(guò)端”測(cè)試;測(cè)試對(duì)象多點(diǎn)通過(guò)測(cè)試站
G01R31-02 .對(duì)電設(shè)備、線路或元件進(jìn)行短路、斷路、泄漏或不正確連接的測(cè)試
G01R31-08 .探測(cè)電纜、傳輸線或網(wǎng)絡(luò)中的故障
G01R31-12 .測(cè)試介電強(qiáng)度或擊穿電壓
G01R31-24 .放電管的測(cè)試
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