[發(fā)明專利]磁石單元及包括其的噴鍍裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010532693.0 | 申請日: | 2010-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN102086510A | 公開(公告)日: | 2011-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳芝瑛;李仁河;樸完雨;黃在君 | 申請(專利權(quán))人: | 亞威科股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁石 單元 包括 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種磁石單元及包括其的噴鍍裝置(MAGNET?UNIT?AND?SPUTTERING?DEVICE?INCLUDING?THE?SAME)。
背景技術(shù)
噴鍍裝置是在制造半導(dǎo)體、LCD基板或太陽能電池基板時用于蒸鍍薄膜的裝置。噴鍍裝置利用形成于磁石單元和對象(target)之間的等離子體,使得蒸鍍物在基板上成膜的裝置。
為了在四角形對象上形成隧道形狀的磁通量,磁石單元具有中央磁石和周邊磁石。
此時,磁石單元的形狀是中央部為直線形狀,兩端為曲線形狀。由此,當(dāng)磁石單元水平往返移動時,中央部和兩側(cè)末端的對象侵蝕量并不均勻。如果分別與磁石單元的中央部和兩側(cè)末端對應(yīng)的領(lǐng)域的對象面侵蝕量不均勻,則對象的利用效率降低,對象的壽命會縮短。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是,在與中央磁石的兩側(cè)末端對應(yīng)的對象領(lǐng)域中,移動中央磁石及周邊磁石其中之一,減少與磁石單元中央部和兩側(cè)末端對應(yīng)的對象面的侵蝕量不均勻現(xiàn)象,從而提高對象利用效率。
本發(fā)明要解決的另一技術(shù)問題是,在中央磁石的兩側(cè)末端周邊磁石的外部設(shè)置至少一個輔助磁石,來減少與磁石單元的中央部和兩側(cè)末端對應(yīng)的對象面的侵蝕量不均勻現(xiàn)象,從而提高對象利用效率。
本發(fā)明要解決的又一技術(shù)問題是,通過移動或旋轉(zhuǎn)輔助磁石,來減少與磁石單元的中央部和兩側(cè)末端對應(yīng)的對象面的侵蝕量不均勻現(xiàn)象,從而提高對象利用效率。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種磁石單元,其特點在于,包括:至少一個中央磁石;及,至少一個周邊磁石,其圍繞該中央磁石的周邊而設(shè)置,在該中央磁石及該周邊磁石中至少一個磁石在該中央磁石的長度方向或者在垂直于該長度方向的方向上往返移動。
上述中央磁石與該周邊磁石分別以不同方向往返移動。
上述磁石單元在該周邊磁石的外側(cè)設(shè)置有至少一個輔助磁石,該輔助磁石與該中央磁石及該周邊磁石中的一個磁石形成閉環(huán)形磁場。
本發(fā)明還提供一種磁石單元,其特點在于,包括:至少一個中央磁石;至少一個周邊磁石,其圍繞該中央磁石的周邊而設(shè)置;及,至少一個輔助磁石,其位于該周邊磁石外側(cè)該中央磁石的兩側(cè)末端。
上述輔助磁石在該中央磁石的長度方向上周期性往返移動。
上述輔助磁石在垂直于該中央磁石的長度方向的方向上周期性往返移動。
并且,上述輔助磁石為不同極性的磁石的結(jié)合,其通過周期性旋轉(zhuǎn),與該中央磁石具有相同極性或者不同極性。
并且,上述輔助磁石包括具有預(yù)定間隔的第1輔助磁石及第2輔助磁石,該第1輔助磁石和該第2輔助磁石中的至少一個磁石周期性旋轉(zhuǎn)。
上述第1輔助磁石和第2輔助磁石結(jié)合有不同極性的磁石,該第1輔助磁石和該第2輔助磁石的相同極性分別與該中央磁石相對設(shè)置。
上述第1輔助磁石和第2輔助磁石結(jié)合有不同極性的磁石,該第1輔助磁石和該第2輔助磁石的不同極性分別于該中央磁石相對設(shè)置。
上述第1輔助磁石及第2輔助磁石在該中央磁石的長度方向上或者在垂直于該長度方向的方向上周期性地往返移動。
上述中央磁石及該周邊磁石中至少一個磁石在該中央磁石的長度方向上周期性往返移動。
上述中央磁石及該周邊磁石中至少一個磁石在垂直于該中央磁石的長度方向的方向上周期性往返移動。
本發(fā)明還提供一種噴鍍裝置,其特點在于,包括:磁石單元,其包括至少一個中央磁石和圍繞該中央磁石周邊的至少一個周邊磁石;支架,該中央磁石及該周邊磁石中至少一個固定設(shè)置于該墊板;磁石單元移動裝置,其用于周期性移動該中央磁石及該周邊磁石中至少一個磁石;對象,其與該磁石單元對向設(shè)置;及,墊板,該對象固定于該墊板。
上述磁石單元還包括至少一個輔助磁石,該輔助磁石設(shè)置于該周邊磁石的外側(cè)該中央磁石的兩側(cè)末端。
上述輔助磁石被固定設(shè)置。
上述輔助磁石在該中央磁石的長度方向上或者在垂直于該長度方向的方向上周期性往返移動。
上述輔助磁石結(jié)合有相不同極性的磁石,并且該輔助磁石周期性旋轉(zhuǎn)。
上述輔助磁石具有結(jié)合有相不同極性的第1輔助磁石及第2輔助磁石。
上述磁石單元為2個以上并列設(shè)置。
本發(fā)明的技術(shù)方案可以減少與磁石單元的中央部和兩側(cè)末端對應(yīng)的對象面的侵蝕量不均勻現(xiàn)象,從而提高對象利用效率。
并且,本發(fā)明的技術(shù)方案還可以減少與中央磁石的兩側(cè)末端對應(yīng)的對象領(lǐng)域的侵蝕量,延長對象壽命。
附圖說明
圖1為本發(fā)明一實施例中噴鍍裝置的示意圖;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于亞威科股份有限公司,未經(jīng)亞威科股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010532693.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





