[發明專利]用于測量多層膜厚度的方法和設備有效
| 申請號： | 201010529517.1 | 申請日： | 2010-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN102052904A | 公開（公告）日： | 2011-05-11 |
| 發明（設計）人： | 西田和史 | 申請（專利權）人： | 橫河電機株式會社 |
| 主分類號： | G01B11/06 | 分類號： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 陳源;張天舒 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 測量 多層 厚度 方法 設備 | ||
1.根據多層膜的每一層的光學厚度對多層膜的每一層的物理厚度進行測量的方法，該方法包括步驟：
(a)設定層的折射率；
(b)使用折射率計算系數矩陣；
(c)將光提供到多層膜以便根據由多層膜反射的光來對光學厚度進行測量；以及
(d)根據光學厚度和系數矩陣計算物理厚度。
2.根據權利要求1的方法，其中當將不能在步驟(c)中進行測量的光學厚度設定為無效值時，將無效值與0的乘積設定為0，將無效值與非0的特定值的乘積設定為無效值，并且將無效值與特定值的和設定為無效值。
3.根據權利要求1的方法，還包括步驟：
(e)根據進入多層膜的光的衰減量計算多層膜的每一層的偽光學厚度；以及
(f)根據多個層的靈敏度比計算層的偽折射率，
其中步驟(b)包括：使用偽折射率以及折射率計算系數矩陣，并且
其中步驟(d)包括：根據偽光學厚度以及光學厚度和系數矩陣計算物理厚度。
4.一種設備，該設備根據多層膜的每一層的光學厚度對多層膜的每一層的物理厚度進行測量，該設備包括：
光學厚度測量單元，配置來將光提供到多層膜以便根據由多層膜反射的光對光學厚度進行測量；
折射率設定單元，配置來設定層的折射率；
系數矩陣計算器，配置來使用折射率計算系數矩陣；以及
物理厚度計算器，配置來根據光學厚度和系數矩陣計算物理厚度。
5.根據權利要求4的設備，還包括：
監控單元，配置來監控系數矩陣的每個分量的絕對值，并且當該絕對值超過閾值時輸出警告。
6.根據權利要求4的設備，其中當將不能通過光學厚度測量單元進行測量的光學厚度設定為無效值時，將無效值與0的乘積設定為0，將無效值與非0的特定值的乘積設定為無效值，并且將無效值與特定值的和設定為無效值。
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