[發明專利]一種鎢化學機械拋光方法有效
| 申請號： | 201010526490.0 | 申請日： | 2010-10-29 |
| 公開（公告）號： | CN102452036A | 公開（公告）日： | 2012-05-16 |
| 發明（設計）人： | 王晨;何華鋒 | 申請（專利權）人： | 安集微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/00 | 分類號： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區張江高*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 方法 | ||
1.一種鎢化學機械拋光方法，包括下列步驟：
(a)將一化學機械拋光液前體與一活性還原劑摻混，以制備化學機械拋光液；和
(b)將所述化學機械拋光液用于鎢的化學機械拋光；
其中：所述活性還原劑可以顯著提高氧化劑的活性和氧化效率。
2.根據權利要求1所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述化學機械拋光液前體包括：水，研磨劑，第一種氧化劑和第二種氧化劑。
3.根據權利要求2所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述研磨劑選自于硅溶膠，氣相二氧化硅，氧化鋁和氧化鈰中的一種或多種。
4.根據權利要求2所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述研磨劑的重量百分含量為0.1～10％。
5.根據權利要求2所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述第一種氧化劑選自于有機過氧化物和/或無機過氧化物。
6.根據權利要求5所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述第一種氧化劑選自于過硫酸鹽，單過硫酸鹽，雙氧水和過氧乙酸中的一種或多種。
7.根據權利要求2所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述第一種氧化劑的重量百分含量為0.1～5％。
8.根據權利要求2所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述第二種氧化劑選自于硝酸鹽，硫酸鹽，溴酸鹽，氯酸鹽，碘酸鹽，高碘酸鹽，高錳酸鹽，以及具有氧化性的過渡金屬鹽中的一種或多種。
9.根據權利要求8所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述第二種氧化劑選自于Ag，Co，Cr，Cu，Mo，Mn，Nb，Ni，Os，Pd，Ru，Sn，Ti和V鹽中的一種或多種。
10.根據權利要求9所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述第二種氧化劑為可溶性銀鹽。
11.根據權利要求10所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述第二種氧化劑選自于氟化銀，高氯酸銀，硫酸銀和硝酸銀中的一種或多種。
12.根據權利要求2所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述第二種氧化劑的重量百分含量為0.05～0.3％。
13.根據權利要求1所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述活性還原劑為無機鹽。
14.根據權利要求13所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述活性還原劑選自于硝酸鹽，硫酸鹽，溴酸鹽，氯酸鹽，碘酸鹽，高碘酸鹽，高錳酸鹽，以及具有氧化性的過渡金屬鹽中的一種或多種。
15.根據權利要求14所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述活性還原劑選自于Ag，Co，Cr，Cu，Mo，Mn，Nb，Ni，Os，Pd，Ru，Sn，Ti和V鹽中的一種或多種。
16.根據權利要求15所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述活性還原劑選自于硝酸鹽，高氯酸鹽和硫酸鹽中的一種或多種。
17.根據權利要求16所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述活性還原劑為非金屬硫酸鹽。
18.根據權利要求17所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述活性還原劑為硫酸銨和/或四甲基銨硫酸鹽。
19.根據權利要求1所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述活性還原劑的重量百分含量為0.01～1％。
20.根據權利要求2所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述化學機械拋光液前體還包括：鎢侵蝕抑制劑。
21.根據權利要求20所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述鎢侵蝕抑制劑為含有雙鍵的酰胺。
22.根據權利要求21所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述鎢侵蝕抑制劑為丙烯酰胺。
23.根據權利要求20所述的鎢化學機械拋光方法，其特征在于：所述鎢侵蝕抑制劑的重量百分含量為0.01～0.5％。
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