[發(fā)明專利]圖案化納米模板及其制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010520234.0 | 申請(qǐng)日： | 2010-10-20 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102030559A | 公開（公告）日： | 2011-04-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 董敬敬;張興旺;尹志崗;譚海仁;高云;張曙光;白一鳴 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類號(hào)： | C04B41/50 | 分類號(hào)： | C04B41/50;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 湯保平 |
| 地址： | 100083 *** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 圖案 納米 模板 及其 制備 方法 | ||
1.一種制備圖案化納米模板的方法，包括以下步驟：
步驟1：利用提拉法，在親水性良好的平面襯底上組裝PS球，得到單層有序的PS球薄膜；
步驟2：利用氧等離子體刻蝕PS球，改變PS球的大小；
步驟3：旋涂異丙醇稀釋的TiO2溶膠，靜置待TiO2溶膠固化，使TiO2溶膠填充PS球間隙；
步驟4：甲苯中超聲完全去除PS球，得到圖案化的納米模板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備圖案化納米模板的方法，其中所用PS球的直徑為0.2-2μm，該P(yáng)S球分散在水中的濃度為1-5wt％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備圖案化納米模板的方法，其中利用提拉法組裝單層PS球時(shí)，靜置時(shí)間為2-5分鐘，提拉速度為200-2000μm/s。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備圖案化納米模板的方法，其中氧等離子體刻蝕PS球的功率為40-200W，工作壓強(qiáng)為5-50mTorr。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備圖案化納米模板的方法，其中TiO2溶膠稀釋于異丙醇中，TiO2溶膠濃度為0.01-0.2mol/L。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備圖案化納米模板的方法，其中旋涂TiO2溶膠時(shí)，轉(zhuǎn)速為2000-6000轉(zhuǎn)/分鐘，旋涂時(shí)間為50-100秒，之后室溫靜置3小時(shí)待TiO2溶膠固化。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備圖案化納米模板的方法，其中甲苯中超聲去除PS球，超聲處理時(shí)間為20-80分鐘。
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