[發明專利]基片轉移裝置無效
| 申請號： | 201010513859.4 | 申請日： | 2008-06-19 |
| 公開（公告）號： | CN102107779A | 公開（公告）日： | 2011-06-29 |
| 發明（設計）人： | 張大鉉;金八坤 | 申請（專利權）人： | FNS科技株式會社 |
| 主分類號： | B65G49/05 | 分類號： | B65G49/05;B65G49/06;B65G49/07;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京北翔知識產權代理有限公司 11285 | 代理人： | 鄭建暉;楊勇 |
| 地址： | 韓國忠清*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 轉移 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種基片轉移裝置，包括：
用于以立式狀態轉移基片的基片轉移單元；以及
用于通過向在立式狀態的基片的一側噴射流體而產生的部分壓力差所產生的引力保持基片立式狀態的基片立式保持單元。
2.根據權利要求1所述的基片轉移裝置，其中所述基片立式保持單元包括
彼此間隔布置的多個噴氣口；以及
安裝在各個噴氣口中、具有與所述基片相對的表面并且在從該表面起的徑向方向引導氣流的多個氣流導向器。
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